[实用新型]一种化学气相沉积炉有效
| 申请号: | 201820840628.6 | 申请日: | 2018-06-01 |
| 公开(公告)号: | CN208545492U | 公开(公告)日: | 2019-02-26 |
| 发明(设计)人: | 董家海;侯临泽 | 申请(专利权)人: | 浙江诺华陶瓷有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
| 代理公司: | 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙) 32251 | 代理人: | 刘计成 |
| 地址: | 322100 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 进气管 炉身 搁件 化学气相沉积炉 炉膛 炉底座 顶部设置 均匀设置 保温层 沉积室 出气管 导流罩 加热体 通气孔 炉盖 通孔 沉积 化学沉积技术 本实用新型 产品转化率 上部封闭 依次设置 导气管 侧壁 室内 | ||
一种化学气相沉积炉,它涉及化学沉积技术领域,具体涉及一种化学气相沉积炉,它包含炉底座、炉身、炉盖、炉膛、加热体、保温层、进气管、通孔、导流罩、导气管、沉积室、搁件板、通气孔、基体、出气管,炉身的底部设置有炉底座,炉身的顶部设置有炉盖,炉身内设置有炉膛,炉身与炉膛之间从外至内依次设置有保温层、加热体,炉底座的中间位置设置有进气管,进气管的上部封闭,进气管的侧壁均匀设置有通孔,进气管的上部设置有导流罩,沉积室内设置有数个搁件板,搁件板上均匀设置有通气孔,搁件板上放置有基体,沉积室的顶部设置有出气管。采用上述技术方案后,本实用新型有益效果为:它不仅结构简单,设计合理,而且沉积效果好,产品转化率高。
技术领域
本实用新型涉及化学沉积技术领域,具体涉及一种化学气相沉积炉。
背景技术
现代科学和技术需要使用大量功能各异的无机新材料,这些功能材料必须是高纯的,或者是在高纯材料中有意地掺入某种杂质形成的掺杂材料。化学气相沉积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相沉积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。
化学气相沉积是一种化工技术,该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物,也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素间化合物,而且它们的物理功能可以通过气相掺杂的淀积过程精确控制。目前,化学气相淀积已成为无机合成化学的一个新领域。
但是现有的气相沉积炉仍存在一些不足之处,比如结构较为复杂,体型较大,而且受诸多因素影响,产品转化率低下。
实用新型内容
本实用新型的目的在于针对现有技术的缺陷和不足,提供一种化学气相沉积炉,它不仅结构简单,设计合理,而且沉积效果好,产品转化率高。
为实现上述目的,本实用新型采用以下技术方案是:它包含炉底座1、炉身2、炉盖3、炉膛4、加热体5、保温层6、进气管7、通孔8、导流罩9、导气管10、沉积室11、搁件板12、通气孔13、基体14、出气管15,炉身2的底部设置有炉底座1,炉身2的顶部设置有炉盖3,炉身2内设置有炉膛4,炉身2与炉膛4之间从外至内依次设置有保温层6、加热体5,炉底座1的中间位置设置有进气管7,进气管7的上部封闭,进气管7的侧壁均匀设置有通孔8,进气管7的上部设置有导流罩9,导流罩9的顶部通过导气管10与沉积室11连通,沉积室11内设置有数个搁件板12,搁件板12上均匀设置有通气孔13,通气孔13按排分布,搁件板12上放置有基体14,沉积室11的顶部设置有出气管15。
所述的炉底座1为不可拆卸构件,所述的炉盖3为可拆卸构件。当炉身2内的部件发生故障或者损坏时,打开炉盖3进行维修即可。
所述的导流罩9呈下部开口的圆筒形结构。导流罩9的内部空间形成了预热缓冲带,气体在其中进行预热后再进去沉积室11内,有利于提高产品转化率。
所述的搁件板12两两之间的间距相等,且放置在搁件板12上的基体14数量相等。采用此种结构使得气体发生反应后形成的薄膜或者涂层的厚度基本相同,可以保证产品的一致性。
所述的出气管15包含排气管15-1和喇叭状出气口15-2,排气管15-1置于沉积室11的外部,喇叭状出气口15-2置于沉积室11的内部。沉积后的废气经喇叭状出气口15-2收集,再由排气管15-1排出,喇叭状出气口15-2至排气管15-1的内孔尺寸由大变小,有效防止了废气在出气管15内沉积造成堵塞。
采用上述技术方案后,本实用新型有益效果为:它不仅结构简单,设计合理,而且沉积效果好,产品转化率高。
附图说明
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





