[实用新型]一种多晶硅片清洗专用架

说明书

本实用新型公开了一种多晶硅片清洗专用架，包括清洗筒总体、固定半筒和活动半筒，所述清洗筒总体由固定半筒和活动半筒组成，所述固定半筒的底面固设有第二立柱和第一立柱，所述第二立柱与第一立柱之间通过滑轨固定连接，所述活动半筒的底部穿过滑轨与固定半筒活动连接，所述固定半筒的顶端设有向外翻折的翻边。本实用新型采用立式结构，占地面积小，空间利用率高，可实现立体旋转，使得清洗筒与清洗液产生相对运动，利用清洗液的冲刷作用提高多晶硅片的清洗速度和清洗质量；上下相邻两个多晶硅片之间通过金属波纹网间隔，既对多晶硅片起到分隔作用，同时保证清洗液与多晶硅片两面的充分接触，无清洗四角。

技术领域

本实用新型涉及多晶硅片清洗设备技术领域，具体为一种多晶硅片清洗专用架。

背景技术

多晶硅，是单质硅的一种形态。熔融的单质硅在过冷条件下凝固时，硅原子以金刚石晶格形态排列成许多晶核，如这些晶核长成晶面取向不同的晶粒，则这些晶粒结合起来，就结晶成多晶硅。

随着大规模集成电路的发展,集成度的不断提高,线宽的不断减小,对硅片的质量要求也越来越高,特别是对硅片的表面质量要求越来越严。硅材料清洗过程中如果不能有效将混在硅料中的金属物、碳或其它杂质全部处理干净，多晶铸锭过程中使用了这些硅料，将会出现严重后果。硅料的物理性质将发生严重的破坏性，硅料参数严重不符合后续产品的需求，特别是“少子寿命”严重偏低。

目前多晶硅清洗时为方便拿取多晶硅片一般采用水平方向延伸的托架，存在占地空间大，空间利用率低，无法旋转，只能静态清洗多晶硅片，存在清洗死角，进而导致硅片废品率高的问题，

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种多晶硅片清洗专用架，解决了现有多晶硅片占地空间大，空间利用率低，无法旋转，只能静态清洗多晶硅片，存在清洗死角，进而导致硅片废品率高的问题。

为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：一种多晶硅片清洗专用架，包括清洗筒总体、固定半筒和活动半筒，所述清洗筒总体由固定半筒和活动半筒组成，所述固定半筒的底面固设有第二立柱和第一立柱，所述第二立柱与第一立柱之间通过滑轨固定连接，所述活动半筒的底部穿过滑轨与固定半筒活动连接，所述固定半筒的顶端设有向外翻折的翻边，且固定半筒的两侧分别设有第一外折边和第二外折边，所述活动半筒的两侧分别设有第一内折边和第二内折边，所述第二内折边与第二外折边的内翻折面衔接，所述第一内折边与第一外折边的外翻折面衔接，所述固定半筒的内壁上安装有两个安装片，两个所述安装片分别安装在固定半筒内壁的顶部和底部，且两个所述安装片之间安装有导轨，所述导轨上套设有若干个金属波纹网，所述金属波纹网的上方放置有多晶硅片，所述固定半筒底部的圆心处安装有轴承。

优选的，所述固定半筒和活动半筒均采用304不锈钢材质制成，且固定半筒和活动半筒的筒体部分均布有网孔。

优选的，所述导轨沿着固定半筒的圆周延伸，所述导轨的总长度小于等于固定半筒圆周长度的四分之三。

优选的，所述翻边上安装有吊环，所述吊环共设有两个。

优选的，所述第二内折边和第一内折边分别与第二外折边和第一外折边均通过螺栓固定在一起，所述螺栓的数量大于等于2。

优选的，所述导轨上设有若干个缓冲弹簧，所述缓冲弹簧设置在上下相邻两个金属波纹网之间。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型(1)整体采用立式结构，占地面积小，空间利用率高，整体为圆筒体结构，底部设有与转轴接轨的轴承机构，可实现立体旋转，使得清洗筒与清洗液产生相对运动，利用清洗液的冲刷作用提高多晶硅片的清洗速度和清洗质量。

(2)上下相邻两个多晶硅片之间通过金属波纹网间隔，金属波纹网为波纹网格型结构，既对多晶硅片起到分隔作用，同时保证清洗液与多晶硅片两面的充分接触，无清洗四角，降低多晶硅片的废品率。