[实用新型]一种晶片刻蚀机有效

专利信息
申请号: 201820749615.8 申请日: 2018-05-18
公开(公告)号: CN208436604U 公开(公告)日: 2019-01-29
发明(设计)人: 赵树国;闫益豪;王振全 申请(专利权)人: 唐山凯泰润科技有限公司
主分类号: B01D53/00 分类号: B01D53/00;B01D53/86;B01D53/04;H01L21/67
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 063000 河北省唐*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 放置槽 固定座 内壁 水平设置 储液槽 吸附层 种晶 开口 本实用新型 底端内壁 有效处理 抽风机 盖板 侧壁 连通 延伸 污染
【说明书】:

实用新型公开了一种晶片刻蚀机,包括外壳,所述外壳的顶端一侧内壁上固定有箱体,箱体与外壳的一侧设有开口,箱体通过开口与外界相互连通,箱体的底端内壁上固定有储液槽,储液槽的顶端设有盖板,外壳的顶端远离箱体的一侧内壁上固定有固定座,箱体的顶端靠近固定座的一侧内壁上开有水平设置的放置槽,放置槽的一端延伸至固定座的内部,放置槽内设有抽风机,放置槽远离箱体的一侧侧壁上开有水平设置的凹槽,本装置能够将晶片刻蚀产生的有毒气体进行有效处理,防止有毒气体对空气造成污染,同时对工作人员的身体健康造成危害,安全性高,还能根据需要对吸附层进行更换,防止吸附层使用时间较长发生失效,更换方便,实用性强。

技术领域

本实用新型涉及晶片加工技术领域,尤其涉及一种晶片刻蚀机。

背景技术

晶片是LED最主要的原物料之一,是LED的发光部件,LED最核心的部分,晶片的好坏将直接决定LED的性能。晶片在加工过程中,通常需要对晶片进行刻蚀,刻蚀是通过溶液、反应离子或其它机械方式来剥离、去除材料的一种统称。刻蚀有干法刻蚀和湿法刻蚀,显而易见,它们的区别就在于湿法使用溶剂或溶液来进行刻蚀。对于湿法刻蚀,由于其通过化学反应来完成刻蚀的目的,因此刻蚀完成后容易产生一些有毒气体,如果没有对有害气体进行处理,容易对空气造成污染,同时危害工作人员的身体健康,为此我们提出一种晶片刻蚀机。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种晶片刻蚀机。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

一种晶片刻蚀机,包括外壳,所述外壳的顶端一侧内壁上固定有箱体,箱体与外壳的一侧设有开口,箱体通过开口与外界相互连通,箱体的底端内壁上固定有储液槽,储液槽的顶端设有盖板,外壳的顶端远离箱体的一侧内壁上固定有固定座,箱体的顶端靠近固定座的一侧内壁上开有水平设置的放置槽,放置槽的一端延伸至固定座的内部,放置槽内设有抽风机,放置槽远离箱体的一侧侧壁上开有水平设置的凹槽,凹槽远离放置槽的一侧侧壁上开有两个水平设置的连接槽,两个连接槽相互远离,凹槽通过连接槽与外界相互连通,连接槽的内部滑动连接有水平设置的光触媒层,光触媒层滑动连接在连接槽内,连接槽的内部远离凹槽的一侧设有挡板,固定座的中间位置远离凹槽的一侧侧壁上开有水平设置的活动槽,活动槽位于两个连接槽之间,外壳的顶端靠近活动槽的一侧外壁上固定有驱动电机,驱动电机的输出轴连接有水平设置的丝杠,丝杠的一端穿过外壳转动连接在活动槽的内壁上,丝杠上螺纹连接有水平设置的连接杆,连接杆的两端分别穿过活动槽的两侧内壁延伸至连接槽内。

优选的,所述活动槽的两侧内壁上均开有水平设置的限位槽,连接杆滑动连接在限位槽内,连接杆位于光触媒层靠近凹槽的一侧。

优选的,所述光触媒层内填充有均匀设置的荧光粉,连接杆与光触媒层相互配合。

优选的,所述开口的顶端和底端均开有水平设置的滑槽,滑槽内滑动连接有垂直设置的玻璃软门。

优选的,所述外壳靠近开口的一侧外壁上设有控制器,抽风机和驱动电机均与控制器电连接。

本实用新型的有益效果:通过放置槽、抽风机、凹槽、活动槽、连接杆、丝杠、固定座、驱动电机、玻璃软门、连接槽、光触媒层、挡板和限位槽的设置,能够将晶片刻蚀产生的有毒气体进行有效处理,防止有毒气体对空气造成污染,同时对工作人员的身体健康造成危害,安全性高,还能根据需要对吸附层进行更换,防止吸附层使用时间较长发生失效,更换方便,实用性强,本装置能够将晶片刻蚀产生的有毒气体进行有效处理,防止有毒气体对空气造成污染,同时对工作人员的身体健康造成危害,安全性高,还能根据需要对吸附层进行更换,防止吸附层使用时间较长发生失效,更换方便,实用性强。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种晶片刻蚀机的正视剖面图;

图2为本实用新型提出的一种晶片刻蚀机的俯视剖面图。

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