[实用新型]一种晶片刻蚀机

权利要求书

1.一种晶片刻蚀机，包括外壳(1)，其特征在于，所述外壳(1)的顶端一侧内壁上固定有箱体(2)，箱体(2)与外壳(1)的一侧设有开口(14)，箱体(2)通过开口(14)与外界相互连通，箱体(2)的底端内壁上固定有储液槽(3)，储液槽(3)的顶端设有盖板(4)，外壳(1)的顶端远离箱体(2)的一侧内壁上固定有固定座(11)，箱体(2)的顶端靠近固定座(11)的一侧内壁上开有水平设置的放置槽(5)，放置槽(5)的一端延伸至固定座(11)的内部，放置槽(5)内设有抽风机(6)，放置槽(5)远离箱体(2)的一侧侧壁上开有水平设置的凹槽(7)，凹槽(7)远离放置槽(5)的一侧侧壁上开有两个水平设置的连接槽(15)，两个连接槽(15)相互远离，凹槽(7)通过连接槽(15)与外界相互连通，连接槽(15)的内部滑动连接有水平设置的光触媒层(16)，光触媒层(16)滑动连接在连接槽(15)内，连接槽(15)的内部远离凹槽(7)的一侧设有挡板(17)，固定座(11)的中间位置远离凹槽(7)的一侧侧壁上开有水平设置的活动槽(8)，活动槽(8)位于两个连接槽(15)之间，外壳(1)的顶端靠近活动槽(8)的一侧外壁上固定有驱动电机(12)，驱动电机(12)的输出轴连接有水平设置的丝杠(10)，丝杠(10)的一端穿过外壳(1)转动连接在活动槽(8)的内壁上，丝杠(10)上螺纹连接有水平设置的连接杆(9)，连接杆(9)的两端分别穿过活动槽(8)的两侧内壁延伸至连接槽(15)内。

2.根据权利要求1所述的一种晶片刻蚀机，其特征在于，所述活动槽(8)的两侧内壁上均开有水平设置的限位槽(18)，连接杆(9)滑动连接在限位槽(18)内，连接杆(9)位于光触媒层(16)靠近凹槽(7)的一侧。

3.根据权利要求1所述的一种晶片刻蚀机，其特征在于，所述光触媒层(16)内填充有均匀设置的荧光粉，连接杆(9)与光触媒层(16)相互配合。

4.根据权利要求1所述的一种晶片刻蚀机，其特征在于，所述开口(14)的顶端和底端均开有水平设置的滑槽，滑槽内滑动连接有垂直设置的玻璃软门(13)。

5.根据权利要求1所述的一种晶片刻蚀机，其特征在于，所述外壳(1)靠近开口(14)的一侧外壁上设有控制器(19)，抽风机(6)和驱动电机(12)均与控制器(19)电连接。