[实用新型]扩散炉炉口排风装置

说明书

本实用新型实施例中提供了一种扩散炉炉口排风装置，所述扩散炉炉口排风装置包括：排风罩、多个排风管和接液盘；所述排风罩设置有炉管开口和多个排风口；所述多个排风管与所述多个排风口连通；所述接液盘设置于所述炉管开口下方，与所述排风罩贴合连接。本实施例中的扩散炉炉口排风装置可以承接炉管炉口冷凝形成的偏磷酸废液，防止偏磷酸废液滴溅至下方扩散炉或机台上，避免偏磷酸废液污染硅片及碳化硅桨等，有效提升了硅片生产良率；且还可以避免偏磷酸废液腐蚀扩散设备内部供电线路，大幅度降低了扩散设备的短路风险。

技术领域

本实用新型涉及太阳能电池片扩散领域，特别是涉及一种扩散炉炉口排风装置。

背景技术

扩散设备是太阳能电池片生产工序的重要工艺设备之一，它的主要用途是对半导体进行掺杂，即在高温条件下将掺杂材料扩散入硅片，从而改变和控制硅片内杂质的类型、浓度和分布，以建立不同的电性区域。虽然某些工艺可以使用离子注入的方法进行掺杂，但是热扩散仍是最主要、最普遍的掺杂方法。硅的热氧化作用是使硅片表面在高温下与氧化剂发生反应，生长一层二氧化硅膜。氧化方法有干氧化和水汽氧化两种，扩散设备是用这两种氧化方法制备氧化层的基础设备。

现有的扩散设备一般是由3根沿竖直方向水平设置的石英炉管组成的，常规的扩散炉的炉门密封都是由石英炉门和石英炉管炉口的硬接触来完成，但是这种硬接触的密封效果并不好，生产过程当中产生的废气容易从炉口泄露出来，并在炉口区域冷凝形成偏磷酸废液，当偏磷酸废液积聚过多时，便会滴溅至下方炉管及设备上。而现有的扩散设备并未设置相关的接液装置，由于冷凝偏磷酸废液的滴溅，扩散设备存在诸如硅片、碳化硅桨及石英管等被废液污染的问题，影响硅片生产良率；且如果冷凝的偏磷酸废液滴溅至设备内部，还存在腐蚀供电线路，进而导致设备短路的风险。

实用新型内容

本实用新型实施例中提供了一种扩散炉炉口排风装置，用以避免冷凝的偏磷酸废液污染硅片及设备，提升硅片生产良率，所述装置包括：排风罩和多个排风管，其中：

所述排风罩设置有炉管开口和多个排风口；

所述多个排风管与所述多个排风口连通；

其特征在于，所述装置还包括接液盘，所述接液盘设置于所述炉管开口下方，与所述排风罩贴合连接。

一个实施例中，所述接液盘与所述排风罩贴合一侧的侧壁顶部形状和所述炉管开口匹配。

一个实施例中，所述接液盘与所述排风罩贴合一侧的侧壁顶部还设置有钩挂部件。

一个实施例中，所述接液盘为长方形接液盘。

一个实施例中，所述接液盘与所述排风罩垂直的两侧壁还设置有挡板。

一个实施例中，所述接液盘为长30.5厘米、宽21厘米、高2厘米的长方形接液盘。

一个实施例中，所述排风罩为边长57厘米的正方形排风罩。

一个实施例中，所述炉管开口设置于所述正方形排风罩的中心。

一个实施例中，所述正方形排风罩设置有4个排风口，所述4个排风口分布于所述正方形排风罩四角。

本实用新型实施例中的扩散炉炉口排风装置，包括设置有炉管开口和多个排风口的排风罩，多个与排风口连接的排风管，设置于炉管开口下方，并与排风罩贴合连接的接液盘。本实施例中的扩散炉炉口排风装置可以承接炉管炉口冷凝形成的偏磷酸废液，防止偏磷酸废液滴溅至下方扩散炉或机台上，避免偏磷酸废液污染硅片及碳化硅桨等，有效提升了硅片生产良率；且还可以避免偏磷酸废液腐蚀扩散设备内部供电线路，大幅度降低了扩散设备的短路风险。

附图说明