[实用新型]一种直拉单晶硅炉炉底排气结构有效

专利信息
申请号: 201820724107.4 申请日: 2018-05-15
公开(公告)号: CN208219004U 公开(公告)日: 2018-12-11
发明(设计)人: 段永兵;汪奇;王楠;王小伟;郑学良;苏义军;谭志高;王军 申请(专利权)人: 新疆晶科能源有限公司
主分类号: C30B15/00 分类号: C30B15/00;C30B29/06
代理公司: 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 代理人: 王伟锋;刘铁生
地址: 835800 新疆维吾尔自*** 国省代码: 新疆;65
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摘要:
搜索关键词: 排气孔 炉体 直拉单晶硅炉 排气结构 本实用新型 中心对称分布 单晶硅生产 单晶硅炉 排气孔沿 轴向设置 装备技术 圆柱状 拉晶 排气 堵塞
【说明书】:

实用新型涉及单晶硅生产装备技术领域,具体涉及一种直拉单晶硅炉炉底排气结构。主要技术方案为:一种直拉单晶硅炉炉底排气结构,包括:炉体和排气孔;所述炉体为圆柱状;所述排气孔设置在所述炉体的底部;所述排气孔沿所述炉体的轴向设置;所述排气孔至少为两个;至少两个所述排气孔以所述炉体的轴线为中心对称分布。采用本实用新型能够使单晶硅炉排气顺畅,减少排气孔的堵塞,提高拉晶速度和质量。

技术领域

本实用新型涉及单晶硅生产装备技术领域,尤其涉及一种直拉单晶硅炉炉底排气结构。

背景技术

在直拉单晶硅生产工艺中,需要向直拉单晶硅炉中通入氩气进行冷却,并带走拉单晶过程中产生的废气。传统的排气孔开设在炉体的下部,排气孔与炉体的轴向垂直,使从加热器与保温罩之间向下流动的废气,需要有较大的流向改变后,方可进入排气孔,通过排气孔排出。由于直拉单晶硅炉的排气不顺畅,而且排气孔位置温度较低,会有大量杂质冷凝,时间长了会堵塞排气孔,严重影响拉晶的速度和质量。

实用新型内容

有鉴于此,本实用新型提供一种直拉单晶硅炉炉底排气结构,主要目的在于使单晶硅炉排气顺畅,减少排气孔的堵塞,提高拉晶速度和质量。

为达到上述目的,本实用新型主要提供如下技术方案:

本实用新型的实施例提供一种直拉单晶硅炉炉底排气结构,包括:炉体和排气孔;

所述炉体为圆柱状;

所述排气孔设置在所述炉体的底部;所述排气孔沿所述炉体的轴向设置;

所述排气孔至少为两个;至少两个所述排气孔以所述炉体的轴线为中心对称分布。

进一步地,还包括:排气管;

所述排气管设置在所述排气孔上;与所述排气孔通过螺纹连接,用于导出气体。

进一步地,所述排气管通过螺纹调节能够贯穿所述排气孔。

进一步地,所述排气管的下端固定地设置有卡座;

所述卡座设置在所述排气管的外壁上;所述卡座被卡接,用于旋转所述排气管。

进一步地,所述卡座与所述炉体之间设置有限位构件,用于限制所述排气管伸入所述排气孔的长度。

进一步地,所述限位构件为“U”形调节垫;

所述“U”形调节垫插接在所述排气管上,位于所述卡座与所述炉体之间。

进一步地,所述排气孔的上部为漏斗状;

所述排气孔的下部为螺纹孔。

进一步地,所述炉体上固定地设置有加热器和保温罩;

所述保温罩套设在所述加热器的外围;

所述保温罩与所述加热器之间具有间隙;

所述排气孔能够部分覆盖所述加热器和所述保温罩之间的间隙。

进一步地,所述炉体的底部固定地设置有电极;所述电极为四个;四个所述电极均匀地分布在所述炉体的底部;

所述排气孔设置在所述电极之间。

进一步地,所述排气管的顶部为倒锥形;所述排气管的顶部在沿轴向向上延伸中,所述排气管的内径逐渐变大。

借由上述技术方案,本实用新型直拉单晶硅炉炉底排气结构至少具有下列优点:

单晶硅炉排气顺畅,能够减少排气孔的堵塞,提高拉晶速度和质量。

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