[实用新型]掩膜板清洁装置

说明书

本实用新型涉及一种掩膜板清洁装置，包括第一清洁结构，用于对掩膜板的第一表面进行清洁；第二清洁结构，用于对掩膜板的第二表面进行清洁，其中，所述第一表面与所述第二表面相对设置，在对掩膜板进行清洁时，所述第一清洁结构和所述第二清洁结构分别位于掩膜板相对的两侧。通过第一清洁结构和第二清洁结构的设置，可以对掩膜板的第一表面进行清洁，也可以对掩膜板的第二表面进行清洁，提升掩膜板的清洁效果，保证产品良率。

技术领域

本实用新型涉及显示产品制作技术领域，尤其涉及一种掩膜板清洁装置。

背景技术

精细金属掩膜(FMM Mask)模式，是通过蒸镀方式将OLED(有机发光二极管，Organic Light-Emitting Diode)材料按照预定程序蒸镀到LTPS(Low Temperature Poly-silicon)背板上，利用掩膜板上的图形，蒸镀红绿蓝有机物到规定位置上。而Defect(缺陷)检测主要是对掩膜板刻蚀不良以及量产使用过程中监控掩膜板缺陷，包括Particle(灰尘)以及监控掩膜板清洁的清洗效果，在量产当中起着非常重要的作用；而处理不掉的灰尘会带来很多不良，造成良率下降，目前掩膜板清洁方式中，仅对掩膜板正面进行清洁，而检测过程当中发现经常有灰尘附着于掩膜板背面，背面的灰尘也会遮挡像素，从而造成不良。

实用新型内容

为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种掩膜板清洁装置，可以同时对掩膜板的相对的第一表面和第二表面进行清洁，提高掩模板清洁效果。

为了达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种掩膜板清洁装置，包括：

第一清洁结构，用于对掩膜板的第一表面进行清洁；

第二清洁结构，用于对掩膜板的第二表面进行清洁，其中，所述第一表面与所述第二表面相对设置，在对掩膜板进行清洁时，所述第一清洁结构和所述第二清洁结构分别位于掩膜板相对的两侧。

进一步的，所述第一清洁结构包括：

第一吹气部，用于向掩膜板的第一表面吹气；

第一吸气部，用于对掩膜板的第一表面提供吸力，以吸走所述第一清洁部吹起的异物。

进一步的，所述第一吹气部包括第一吹气口，所述第一清洁结构还包括第一角度调节部，所述第一角度调节结构用于调节所述第一吹气口与掩膜板第一表面之间的角度。

进一步的，所述第一吸气部包括第一吸气口，所述第一吸气口为喇叭状结构，所述第一清洁结构还包括第二角度调节部，所述第二角度调节结构用于调节所述第一吸气口与掩膜板的第一表面之间的角度。

进一步的，所述第一清洁结构还包括用于对掩膜板的第一表面提供离子风的第一离子风部，所述第一离子风部与所述第一吹气部同步运动。

进一步的，所述第二清洁结构包括第二吸气部，用于对掩膜板的第二表面提供吸力，以吸走掩膜板的第二表面的异物。

进一步的，所述第二吸气部与所述第一吹气部正对，以使得所述第二吸气部吸走所述第一吹气部吹向掩膜板的第二表面的异物。

进一步的，所述第二吸气部包括第二吸气口，所述第二吸气口呈喇叭状结构，所述第二清洁结构包括第三角度调节结构，所述第三角度调节结构用于调节所述第二吸气口与掩膜板的第二表面之间的角度。

进一步的，所述第二清洁结构还包括第二吹气部，用于向掩膜板的第二表面吹气，所述第二吸气部还用于吸走所述第二吹气部吹起的异物。

进一步的，所述第二吹气部包括第二吹气口，所述第二清洁结构还包括第四角度调节结构，所述第四角度调节结构用于调节所述第二吹气口与掩膜板第二表面之间的角度。

进一步的，所述第二清洁结构还包括用于对掩膜板的第二表面提供离子风的第二离子风部，所述第二离子风部与所述第二吹气部同步运动。