[实用新型]平面靶整平用矫正平台机构有效
申请号: | 201820698692.5 | 申请日: | 2018-05-11 |
公开(公告)号: | CN208183065U | 公开(公告)日: | 2018-12-04 |
发明(设计)人: | 臧龙杰 | 申请(专利权)人: | 昆山世高新材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 矫正 本实用新型 平台机构 平面靶 整平 千金 下层 工艺参数优化 工艺成本 工艺难题 平面靶材 靶材 漏空 薄膜 上层 | ||
本实用新型公开平面靶整平用矫正平台机构,双层矫正平台上层与液压千金顶连接,液压千金顶下方对应的双层矫正平台下层呈漏空状态,双层矫正平台下层上方设有平面靶材,本实用新型可以快速的将靶材矫正过来,降低工艺成本、解决工艺难题和满足进一步提高薄膜性能的工艺参数优化。
技术领域
本实用新型涉及平面靶整平用矫正平台机构,属于矫正平台的技术领域。
背景技术
平面靶整平用矫正平台机构可以快速的将靶材矫正过来,降低工艺成本、解决工艺难题和满足进一步提高薄膜性能的工艺参数优化,前者关注于靶材利用率、沉积速率、薄膜均匀性以及溅射过程稳定性等方面的问题,后者由于低能离子轰击在薄膜沉积过程中的重要作用。
实用新型内容
实用新型目的:为了克服矫正成本过高的问题,本实用新型提供平面靶整平用矫正平台机构。
工艺方案:本实用新型公开平面靶整平用矫正平台机构,包括双层矫正平台、平面靶材、液压千金顶、支撑脚,所述双层矫正平台上层与液压千金顶连接,所述液压千金顶下方对应的双层矫正平台下层呈漏空状态,所述双层矫正平台下层上方设有平面靶材。
进一步,所述液压千金顶共设有4组,每组设有3个液压千金顶。
本实用新型可以快速的将靶材矫正过来,降低工艺成本、解决工艺难题和满足进一步提高薄膜性能的工艺参数优化。
附图说明
图1:本实施例平面靶整平用矫正平台机构的结构示意图。
图中:双层矫正平台-1、平面靶材-2、液压千金顶-3、支撑脚-4。
具体实施方式
以下结合附图并通过具体实施例对本实用新型做进一步阐述,应当指出:对于本工艺领域的普通工艺人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,对本实用新型的各种等价形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的范围。
实施例1:
如图1所示平面靶整平用矫正平台机构,包括双层矫正平台1、平面靶材2、液压千金顶3、支撑脚4,所述双层矫正平台1上层与液压千金顶3连接,所述液压千金顶3下方对应的双层矫正平台1下层呈漏空状态,所述双层矫正平台1下层上方设有平面靶材2,所述液压千金顶3共设有4组,每组设有3个液压千金顶3,本实用新型可以快速的将靶材矫正过来,降低工艺成本、解决工艺难题和满足进一步提高薄膜性能的工艺参数优化。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山世高新材料科技有限公司,未经昆山世高新材料科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201820698692.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种新型合金靶材
- 下一篇:一种磁控溅射靶及磁体结构
- 同类专利
- 专利分类