[实用新型]一种自清洁旋转反应器

说明书

本实用新型公开了一种自清洁旋转反应器，包括机架（1）、机身（2）、进料端（3）、出料端（4）、驱动机构（5）和导料抄板（6），其特征在于：所述的机身（2）内放置有多个瓷球（7）且导料抄板（6）通过筋板（8）固定在机身（2）的壳体内壁上，瓷球（7）能够穿过筋板（8）内的缝隙和筋板（8）之间的间隙在机身（2）底部的壳体内壁上运动。本实用新型通过在机身内放置多个瓷球将生产过程中产生的结垢清理掉，解决了介质流动和结垢清理的问题并降低了生产成本；另外通过采用滚圈和托辊相配合，提高了转动效率；带滑道副的支撑机构给设备转动时留出了轴向窜动量，能有效解决设备的轴向窜动，故适宜推广使用。

技术领域

本实用新型涉及能够用于能源环保、冶炼、石油、化工、印染、制药、食品等领域的旋转反应器，具体地说是一种能够自动清洁并保留轴向窜动量的自清洁旋转反应器。

背景技术

在现有技术中，一般采用卧式反应釜对物料进行搅拌，搅拌后及时送到生产现场，卧式反应釜每次贮存的物料有限，难以满足大型化生产的需要。申请人在2017年07月14日递交了名称为“旋转反应器”、申请号为2017208556397的实用新型专利，该专利提供了一种在输送物料的同时能够对物料起到搅拌作用的旋转反应器。但在使用过程中，出现了以下问题：一是在设备开车运行时，在设备壳体内壁容易结垢，长时间运行后，在抄板根部结垢会越来越严重，影响介质的流动和流动时的搅拌，长时间不清理不容易消除结垢，经常清理又影响生产；二是旋转反应器在工作时，由于里面输送介质的影响，可能会产生轴向窜动，而现有的支撑设备由于固定设置，导致旋转反应器在旋转时，会对支撑件造成拉扯，对旋转反应器的正常工作造成一定的影响，并降低旋转反应器的使用寿命。

发明内容

本实用新型的目的是针对现有技术存在的问题，提供一种能够自动清洁并保留轴向窜动量的自清洁旋转反应器。

本实用新型的目的是通过以下技术方案解决的：

一种自清洁旋转反应器，包括机架、机身、进料端、出料端、驱动机构和导料抄板，其特征在于：所述的机身内放置有多个瓷球且导料抄板通过筋板固定在机身的壳体内壁上，瓷球能够穿过筋板内的缝隙和筋板之间的间隙在机身底部的壳体内壁上运动。

所述机身的内腔中设置有限定瓷球轴向运动范围的隔挡，且隔挡之间的间距为2.5～4m。

所述的隔挡上设有多个端部半圆的直径小于瓷球的直径的长圆孔。

所述的机架包括托轮机构和托轮挡轮机构，托轮机构位于机身的两端且托轮挡轮机构位于托轮机构之间。

所述托轮机构和托轮挡轮机构中的托辊上设有环状凹槽，环状凹槽内设有能够在托辊和机身之间滚动的滚圈。

所述的托轮挡轮机构机构还包括支撑机构，所述的支撑机构包括能够固定在结构底座上的安装底板，安装底板的上方设有用于支撑旋转设备机身的支座，在安装底板的顶部焊接有带顶凹槽的下滑道副且支座的底部焊接有带底凹槽的上滑道副，顶凹槽和底凹槽相对设置且两者构成一个能够容纳滑块的腔体，所述的下滑道副、滑块和上滑道副构成一个完整的滑道副。

所述下滑道副的下平面和上滑道副的上平面之间留有间隙；所述间隙的高度与滑块的高度之比为10～15:100。

所述滑块的长度和顶凹槽和底凹槽的长度之比皆为90～95:100。

本实用新型相比现有技术有如下优点：