[实用新型]一种自清洁旋转反应器有效
| 申请号： | 201820642644.4 | 申请日： | 2018-05-02 |
| 公开（公告）号： | CN208494234U | 公开（公告）日： | 2019-02-15 |
| 发明（设计）人： | 李伟;王坤;史玉芬;詹蓉 | 申请（专利权）人： | 江苏远方迪威尔设备科技有限公司 |
| 主分类号： | B01J19/28 | 分类号： | B01J19/28;B01J19/00 |
| 代理公司： | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人： | 李德溅;夏平 |
| 地址： | 214206 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 机身 瓷球 筋板 本实用新型 旋转反应器 壳体内壁 自清洁 抄板 导料 结垢 轴向窜动量 介质流动 驱动机构 设备转动 生产过程 有效解决 支撑机构 轴向窜动 出料端 进料端 滚圈 滑道 托辊 生产成本 转动 穿过 配合 | ||
1.一种自清洁旋转反应器，包括机架（1）、机身（2）、进料端（3）、出料端（4）、驱动机构（5）和导料抄板（6），其特征在于：所述的机身（2）内放置有多个瓷球（7）且导料抄板（6）通过筋板（8）固定在机身（2）的壳体内壁上，瓷球（7）能够穿过筋板（8）内的缝隙和筋板（8）之间的间隙在机身（2）底部的壳体内壁上运动。
2.根据权利要求1所述的自清洁旋转反应器，其特征在于：所述机身（2）的内腔中设置有限定瓷球（7）轴向运动范围的隔挡（9），且隔挡（9）之间的间距为2.5～4m。
3.根据权利要求2所述的自清洁旋转反应器，其特征在于：所述的隔挡（9）上设有多个端部半圆的直径小于瓷球（7）的直径的长圆孔。
4.根据权利要求1所述的自清洁旋转反应器，其特征在于：所述的机架（1）包括托轮机构（10）和托轮挡轮机构（11），托轮机构（10）位于机身（2）的两端且托轮挡轮机构（11）位于托轮机构（10）之间。
5.根据权利要求4所述的自清洁旋转反应器，其特征在于：所述托轮机构（10）和托轮挡轮机构（11）中的托辊（12）上设有环状凹槽（13），环状凹槽（13）内设有能够在托辊（12）和机身（2）之间滚动的滚圈（14）。
6.根据权利要求4或5所述的自清洁旋转反应器，其特征在于：所述的托轮挡轮机构（11）机构还包括支撑机构（15），所述的支撑机构（15）包括能够固定在结构底座上的安装底板（16），安装底板（16）的上方设有用于支撑旋转设备机身的支座（17），在安装底板（16）的顶部焊接有带顶凹槽（18）的下滑道副（19）且支座（17）的底部焊接有带底凹槽（20）的上滑道副（21），顶凹槽（18）和底凹槽（20）相对设置且两者构成一个能够容纳滑块（22）的腔体，所述的下滑道副（19）、滑块（22）和上滑道副（21）构成一个完整的滑道副。
7.根据权利要求6所述的自清洁旋转反应器，其特征在于：所述下滑道副（19）的下平面和上滑道副（21）的上平面之间留有间隙（23）；所述间隙（23）的高度与滑块（22）的高度之比为10～15:100。
8.根据权利要求6所述的自清洁旋转反应器，其特征在于：所述滑块（22）的长度和顶凹槽（18）和底凹槽（20）的长度之比皆为90～95:100。
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