[实用新型]一种用于磁控溅射镀膜设备的降温腔室

说明书

本实用新型为一种用于磁控溅射镀膜设备的降温腔室，用于对位于其内部的工件进行降温，所述降温腔室的内部设置风机、换热器以及导流部件；所述导流部件用于在所述降温腔室内部形成气体流动的循环路径；所述风机设置在所述循环路径上，用于使所述降温腔室内部的气体产生沿着所述循环路径的循环流动；所述换热器设置在所述循环路径上，用于对流经该换热器的热气体进行冷却，形成冷气体；其中，所述冷气体流经所述工件，对所述工件进行降温后形成所述热气体。本实用新型能满足磁控溅射镀膜设备批量生产时对冷却效率的要求，防止基体高温时在大气中被氮化。

技术领域

本实用新型涉及连续镀膜领域，尤其涉及一种用于磁控溅射镀膜设备的降温腔室。

背景技术

在烧结型NdFeB磁体表面制备一层重稀土元素铽薄膜，可以进一步提高钕铁硼稀土永磁材料的性能。利用现有的电镀或涂覆技术在NdFeB磁体表面制备铽薄膜的效果不理想，会出现薄膜纯度不高、致密性不好以及厚度不均匀等问题。

现有技术中，针对采用磁控溅射在钕铁硼磁性材料基体的表面形成铽薄膜，还没有解决如何实现批量生产的问题。例如，在连续磁控溅射镀膜过程中，经过靶材镀膜后的工件会带有较高的温度，形成有铽薄膜的基体处于高温时，在大气中容易被氮化，从而影响薄膜质量。

现有的冷却装置达不到磁控溅射镀膜设备进行批量生产所需的冷却效率，会降低生产节拍。

公开于本实用新型背景技术部分的信息仅仅旨在加深对本实用新型总体背景技术的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术。

实用新型内容

本实用新型的目的在于至少解决上述技术问题之一，为此本实用新型提供一种用于磁控溅射镀膜设备的降温腔室，满足磁控溅射镀膜设备批量生产时对冷却效率的要求，防止基体高温时在大气中被氮化。

本实用新型的目的是这样实现的：一种用于磁控溅射镀膜设备的降温腔室，用于对位于其内部的工件进行降温，所述降温腔室的内部空间设置风机、换热器以及导流部件；

所述导流部件用于在所述降温腔室的内部空间形成气体流动的循环路径；

所述风机设置在所述循环路径上，用于使所述降温腔室内部的气体产生沿着所述循环路径的循环流动；

所述换热器设置在所述循环路径上，用于对流经该换热器的热气体进行冷却，形成冷气体；

其中，所述冷气体流经所述工件，对所述工件进行降温后形成所述热气体。

在本实用新型的一较佳实施方案中，所述循环路径被设置成经过所述工件的上表面，使得所述冷气体平行于所述工件的上表面流经所述工件。

在本实用新型的一较佳实施方案中，所述风机包括进风端和出风端；所述进风端与所述换热器相邻设置，所述出风端设置有吹扫喷头，所述吹扫喷头的吹扫方向朝向所述工件，以将所述冷气体吹向所述工件。

在本实用新型的一较佳实施方案中，所述吹扫喷头的吹扫方向平行于所述工件的上表面，使得所述冷气体平行于所述工件的上表面流经所述工件。

在本实用新型的一较佳实施方案中，所述降温腔室的内部设有承载装置，所述承载装置用于承载放置有所述工件的料盘；所述导流部件包括导流板；所述导流板设于所述承载装置的侧面和下方；

所述导流板与所述降温腔室的壁之间，以及所述料盘与所述降温腔室的顶壁之间分别形成部分所述循环路径。

在本实用新型的一较佳实施方案中，所述导流板包括侧导流板和下导流板；

所述侧导流板设于所述承载装置的第一侧，且与所述降温腔室的底壁垂直；所述下导流板设于所述承载装置的下方，且与所述降温腔室的底壁平行；