[实用新型]一种用于磁控溅射镀膜设备的降温腔室有效
申请号: | 201820641459.3 | 申请日: | 2018-05-02 |
公开(公告)号: | CN208776829U | 公开(公告)日: | 2019-04-23 |
发明(设计)人: | 金晨;韩彬;李建银 | 申请(专利权)人: | 北京七星华创集成电路装备有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;张天舒 |
地址: | 101312 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 降温腔 循环路径 磁控溅射镀膜设备 换热器 本实用新型 导流部件 冷气体 热气体 室内部 氮化 风机设置 冷却效率 内部设置 气体产生 气体流动 循环流动 风机 冷却 生产 | ||
1.一种用于磁控溅射镀膜设备的降温腔室,用于对位于其内部的工件进行降温,其特征在于,所述降温腔室的内部空间设置风机、换热器以及导流部件;
所述导流部件用于在所述降温腔室的内部空间形成气体流动的循环路径;
所述风机设置在所述循环路径上,用于使所述降温腔室内部的气体产生沿着所述循环路径的循环流动;
所述换热器设置在所述循环路径上,用于对流经该换热器的热气体进行冷却,形成冷气体;
其中,所述冷气体流经所述工件,对所述工件进行降温后形成所述热气体。
2.根据权利要求1所述的用于磁控溅射镀膜设备的降温腔室,其特征在于,所述循环路径被设置成经过所述工件的上表面,使得所述冷气体平行于所述工件的上表面流经所述工件。
3.根据权利要求1所述的用于磁控溅射镀膜设备的降温腔室,其特征在于,所述风机包括进风端和出风端;所述进风端与所述换热器相邻设置,所述出风端设置有吹扫喷头,所述吹扫喷头的吹扫方向朝向所述工件,以将所述冷气体吹向所述工件。
4.根据权利要求3所述的用于磁控溅射镀膜设备的降温腔室,其特征在于,所述吹扫喷头的吹扫方向平行于所述工件的上表面,使得所述冷气体平行于所述工件的上表面流经所述工件。
5.根据权利要求1所述的用于磁控溅射镀膜设备的降温腔室,其特征在于,所述降温腔室的内部设有承载装置,所述承载装置用于承载放置有所述工件的料盘;所述导流部件包括导流板;所述导流板设于所述承载装置的侧面和下方;
所述导流板与所述降温腔室的壁之间,以及所述料盘与所述降温腔室的顶壁之间分别形成部分所述循环路径。
6.根据权利要求5所述的用于磁控溅射镀膜设备的降温腔室,其特征在于,所述导流板包括侧导流板和下导流板;
所述侧导流板设于所述承载装置的第一侧,且与所述降温腔室的底壁垂直;所述下导流板设于所述承载装置的下方,且与所述降温腔室的底壁平行;
所述风机和所述换热器均设置于与所述承载装置的第一侧相对的第二侧,且所述换热器设于所述风机的正下方。
7.根据权利要求6所述的用于磁控溅射镀膜设备的降温腔室,其特征在于,所述侧导流板的顶部与所述承载装置上放置的所述料盘的高度相同,且所述侧导流板的顶部设置朝向所述承载装置的方向水平伸出的弯折部。
8.根据权利要求1至7任一项所述的用于磁控溅射镀膜设备的降温腔室,其特征在于,所述换热器包括水冷管,所述水冷管按照一定形状盘绕设置,所述水冷管的外壁设有多个翅片;所述水冷管内用于通入循环冷却水。
9.根据权利要求6所述的用于磁控溅射镀膜设备的降温腔室,其特征在于,所述承载装置包括传送轮和传送驱动装置,所述传送轮通过支撑件转动支撑在所述降温腔室的底壁,用于支撑并带动料盘移动;所述传送驱动装置用于驱动所述传送轮转动。
10.根据权利要求9所述的用于磁控溅射镀膜设备的降温腔室,其特征在于,所述降温腔室的第一端和与第一端相对的第二端均设置有门阀,所述门阀用于使放置有工件的料盘在所述传送轮的带动下进入或离开所述降温腔室;且所述第一侧与所述第二侧的连线垂直于所述第一端与所述第二端的连线。
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