[实用新型]一种镀膜装置

说明书

本实用新型涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种应用于真空镀膜的镀膜装置。该装置包括镀膜仓和溅射靶，还包括设置于镀膜仓内的传送装置；传送装置包括传送辊和设置于传送辊上的载物架；载物架包括用于承载被镀工件的金属网和用于支撑金属网的骨架；骨架放置于传送辊上并通过传送辊移动；溅射靶包括上溅射靶和下溅射靶,上溅射靶和下溅射靶分别位于金属网的上下两侧，并对金属网上的被镀工件同时进行溅射。本申请中的一种镀膜装置，被镀工件无需翻转一次镀膜成型，镀膜时间相对现有技术节省一半以上，生产效率更高，且一次镀膜成型节省溅射靶材，成本更低；无需再额外设置被镀工件的翻转结构，降低了镀膜装置的结构复杂度及占用的空间。

技术领域

本实用新型涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种应用于真空镀膜的镀膜装置。

背景技术

钕铁硼磁铁属于磁性材料，用途广泛，但是，由于其表面极易被氧化腐蚀，因此需要进行表面涂层处理。目前，常用的方法是采用真空镀铽、镀碲等方式在钕铁硼磁铁上镀一层保护膜，以起到防腐及增强性能的作用。

现有的镀膜装置镀膜操作时，将工件放置在一平台上，平台载工件进入镀膜仓，在镀膜仓内工件除与平台接触的一面之外全部完成镀膜，之后，平台出镀膜仓，翻转工件，使工件与平台接触的一面朝上，平台再次进入镀膜仓进行真空镀膜，工件前一次未镀膜的一面也完成镀膜，从而完成对工件的镀膜处理。

该真空镀膜装置，完成一个工件的镀膜需要两次镀膜循环，工作效率低；而且，工件出现局部重复镀膜的现象，造成原料的浪费；同时，翻转结构不仅增加镀膜时长，且增加了镀膜装置的复杂度，导致镀膜结构占用空间大，维护维修不便。

实用新型内容

本实用新型提供一种镀膜装置，被镀工件在镀膜仓内一次镀膜即可完成所有面的镀膜，无需再翻转被镀工件，镀膜效率高，节省镀膜原料，且操作省时省力。

根据本实用新型的实施例，提供了一种镀膜装置，包括镀膜仓和设置于所述镀膜仓内的溅射靶，还包括设置于所述镀膜仓内的传送装置；

所述传送装置包括传送辊和设置于所述传送辊上的载物架；所述载物架包括用于承载被镀工件的金属网和用于支撑金属网的骨架；所述骨架放置于所述传送辊上并通过所述传送辊移动；

所述溅射靶包括上溅射靶和下溅射靶,所述上溅射靶和下溅射靶分别位于所述金属网的上下两侧，并对所述金属网上的被镀工件同时进行溅射。

进一步地，所述骨架上还包括交叉设置的用于支撑金属网的加强筋，所述加强筋与所述骨架固定连接，所述加强筋将所述金属网分为多个载物区。

进一步地，所述骨架及所述加强筋均为两层，两层所述骨架及所述加强筋固定连接夹紧所述金属网。

进一步地，所述传送辊为多个，多个所述传送辊均匀间隔分布，每个所述传送辊连接有驱动电机，所述传送辊的中心轴线与所述骨架的移动方向相互垂直，所述骨架的底部设有沿其移动方向设置的导轨，所述传送辊上设有用于与所述导轨连接的导槽。

进一步地，所述镀膜仓内还包括用于推动被镀工件在所述金属网上移动的推动组件；

所述推动组件包括升降气缸，所述升降气缸位于所述金属网上方与所述镀膜仓固定连接，所述升降气缸的活塞杆的端部设有阻挡块，所述活塞杆能带动所述阻挡块降至所述金属网上阻挡所述工件移动。

进一步地，所述阻挡块的阻挡面为斜面。

进一步地，所述上溅射靶和所述下溅射靶均为多个，多个所述上溅射靶和多个所述下溅射靶等间隔均匀分布，且所述上溅射靶和所述下溅射靶以所述金属网为中心对称设置。

进一步地，相邻的两个所述传送辊之间设置一所述下溅射靶。