[实用新型]一种RENA制绒设备多出口式均匀排液装置有效
| 申请号： | 201820594807.6 | 申请日： | 2018-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN207993831U | 公开（公告）日： | 2018-10-19 |
| 发明（设计）人： | 张忠文;谢毅;周丹;谢泰宏;张冠纶 | 申请（专利权）人： | 通威太阳能（安徽）有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L31/0236;C30B33/10 |
| 代理公司： | 昆明合众智信知识产权事务所 53113 | 代理人： | 张玺 |
| 地址： | 230088 安徽省合*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 制绒槽 通水管 搅拌叶 转轴 本实用新型 挡板 排液装置 制绒设备 出水口 多出口 排液 拨动 活动连接有 混合效果 活动连接 间隔均匀 内腔中部 内侧壁 制绒机 制绒液 水管 开通 | ||
1.一种RENA制绒设备多出口式均匀排液装置，包括制绒槽(1)，其特征在于：所述制绒槽(1)内腔中部设置有转轴(2)，所述转轴(2)上固定有搅拌叶(3)，所述搅拌叶(3)远离转轴(2)一端固定有拨动块(4)；
所述制绒槽(1)内设置有若干通水管(5)，所述通水管(5)固定于制绒槽(1)内侧壁上，所述通水管(5)与制绒槽(1)连接处开设有出水口(6)，所述通水管(5)远离出水口(6)一端活动连接有挡板(7)；
所述挡板(7)与拨动块(4)活动连接。
2.根据权利要求1所述的一种RENA制绒设备多出口式均匀排液装置，其特征在于：所述通水管(5)对称的固定于制绒槽(1)的四个内侧壁上。
3.根据权利要求1所述的一种RENA制绒设备多出口式均匀排液装置，其特征在于：所述挡板(7)活动插设于挡板孔(8)中，所述挡板孔(8)中设置有复位弹簧(9)，所述复位弹簧(9)连接于挡板(7)上，所述挡板孔(8)开设于安装块(10)中，且所述安装块(10)固定于制绒槽(1)侧壁上。
4.根据权利要求3所述的一种RENA制绒设备多出口式均匀排液装置，其特征在于：所述安装块(10)上开设有限位孔(13)，所述限位孔(13)中活动插设有限位杆(12)，所述限位杆(12)固定有连杆(11)，所述连杆(11)远离限位杆(12)一端固定于挡板(7)上，所述限位孔(13)内设置有辅助弹簧(14)，所述辅助弹簧(14)连接于限位杆(12)上。
5.根据权利要求1所述的一种RENA制绒设备多出口式均匀排液装置，其特征在于：所述通水管(5)中固定有液流盘(15)，所述液流盘(15)中开设有通孔(16)。
6.根据权利要求1所述的一种RENA制绒设备多出口式均匀排液装置，其特征在于：所述转轴(2)固定于电机(17)上，所述电机(17)固定于横杆(18)上，所述横杆(18)两端通过固定杆(19)固定于制绒槽(1)侧壁上。
7.根据权利要求1所述的一种RENA制绒设备多出口式均匀排液装置，其特征在于：所述搅拌叶(3)中开设有通水孔(31)，所述通水孔(31)一侧侧壁开设有吸水孔(32)，所述拨动块(4)中对应通水孔(31)开设有出液孔(41)。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
