[实用新型]一种遮色氧化锆贴面

权利要求书

1.一种遮色氧化锆贴面，包括氧化锆贴面本体，其特征在于：所述氧化锆贴面本体的粘接内表面上设有用于提高比表面积及表面粗糙度的微纹饰，所述氧化锆贴面本体的粘接内表面上还依次设有染色遮色层、镀膜遮色层及片状氧化铝薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种遮色氧化锆贴面，其特征在于：所述氧化锆贴面本体自咬合外表面至粘接内表面依次为具有生物活性的外表面层、基体结构层，具有生物活性的外表面层由外侧的纳米孔层和内侧的微米孔层构成，基体结构层由外侧致密的氧化锆纳米晶粒层及内侧致密的氧化锆微米晶粒层组成，纳米孔层与微米孔层之间的界面形成均匀梯度过渡，微米孔层与基体结构层外侧致密的氧化锆纳米晶粒层之间的界面形成均匀梯度过渡。

3.根据权利要求1所述的一种遮色氧化锆贴面，其特征在于：纳米孔层由氧化锆纳米晶粒及若干贯穿纳米孔层的纳米孔组成，微米孔层由氧化锆纳米晶粒及若干贯穿微米孔层的微米孔组成。

4.根据权利要求2所述的一种遮色氧化锆贴面，其特征在于：所述氧化锆纳米晶粒的尺寸为50-200纳米，所述纳米孔的尺寸为20-150纳米，所述氧化锆微米晶粒的尺寸为0.5-2微米，所述微米孔的尺寸为0.5-2微米。

5.根据权利要求1所述的一种遮色氧化锆贴面，其特征在于：所述氧化锆贴面本体的厚度为0.1-1mm。

6.根据权利要求1所述的一种遮色氧化锆贴面，其特征在于：镀膜遮色层厚度在0.02-0.2微米。

7.根据权利要求1所述的一种遮色氧化锆贴面，其特征在于：片状氧化铝薄膜为厚度在5-20nm，长宽在50-400nm的片状氧化铝形成，片状氧化铝薄膜厚度在50-1000nm之间。

8.根据权利要求1所述的一种遮色氧化锆贴面，其特征在于：所述微纹饰的纹路深度在3-50微米，所述微纹饰全部或部分覆盖氧化锆贴面本体的粘接内表面，部分覆盖的面积占粘接内表面总面积的50-90%。

9.根据权利要求1所述的一种遮色氧化锆贴面，其特征在于：所述微纹饰为网格状图案，网格的形状为圆形、三角形、菱形、长方形或正方形，网格的尺寸为10-60微米；或所述微纹饰为线形、同心圆或螺旋形。

10.根据权利要求1所述的一种遮色氧化锆贴面，其特征在于：所述氧化锆贴面本体的形态为开窗式、包绕式、对接式、邻面嵌体这四种形态中的一种。