[实用新型]一种金属有机化学气相沉积设备

说明书

本实用新型公开了金属化学技术领域的一种金属有机化学气相沉积设备，包括反应腔，所述反应腔的顶部左侧设有固定轴，所述固定轴的右侧设有封盖板，所述反应腔的右侧设有加热器，所述反应腔的底部两侧均设有支撑架，所述反应腔的内腔设有衬托底盘，所述衬托底盘的底部与螺纹支撑杆的顶部连接，所述螺纹支撑杆的底部连接在反应腔底部的转动扣顶部，本实用新型设计合理，解决了传统金属有机化学气相沉积通过加热器升温后，在不影响内部情况下，通常需要等待内部自身进行降温，需要等待很长的时间，会影响工作效率的问题，具有很高的实用价值。

技术领域

本实用新型公开了一种金属有机化学气相沉积设备，具体为金属化学技术领域。

背景技术

金属有机物化学气相沉积又称有机金属化合物气相淀积法。一种利用有机金属热分解反应进行气相外延生长薄膜的化学气相沉积技术。该方法现在主要用于化合物半导体的气相生长上。用该法制备薄膜时，作为含有化合物半导体元素的原料化合物，必须满足常温稳定且易处理，在室温附近有适当的蒸气压，反应的副产物不应妨碍晶体生长，不应污染生长层等条件。因此常选用金属的烷基或芳基衍生物，羟基衍生物、羟基衍生物等为原料。它最主要的特点是沉积温度低。另外由于不采用卤化物原料，因此在沉积中不存在刻蚀反应；适用范围广，几乎可生长所有化合物和合金半导体；生长温度范围宽，适宜大批量生产。

传统金属有机化学气相沉积通过加热器升温后，在不影响内部情况下，通常需要等待内部自身进行降温，需要等待很长的时间，会影响工作效率的问题，为此，我们提出了一种金属有机化学气相沉积设备投入使用，以解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种金属有机化学气相沉积设备，以解决上述背景技术中提出传统金属有机化学气相沉积通过加热器升温后，在不影响内部情况下，通常需要等待内部自身进行降温，需要等待很长的时间，会影响工作效率的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种金属有机化学气相沉积设备，包括反应腔，所述反应腔的顶部左侧设有固定轴，所述固定轴的右侧设有封盖板，所述封盖板的内腔设有多个均匀相等的通气孔，所述通气孔的顶部设有移动板，所述反应腔的右侧设有加热器，所述加热器的左侧底部设有热气管，所述热气管贯穿反应腔的右侧壁，所述反应腔的内腔设有衬托底盘，所述衬托底盘的底部连接在螺纹支撑杆的顶部，所述螺纹支撑杆的底部连接在反应腔底部的转动扣上，且反应腔的底部内腔设有与螺纹支撑杆转动连接的螺纹槽，所述反应腔的底部两侧均设有支撑架，所述反应腔的左侧设有降温箱，所述反应腔的内腔设有隔层。

优选的，所述降温箱的内腔设有干冰层，所述降温箱的右侧设有降温管，所述降温管连接在隔层的内腔，所述反应腔的右侧底部设有流出口，所述流出口上连接有固定扣。

优选的，所述封盖板的底部设有T字型卡件，所述T字型卡件的底部两端与固定轴顶部内腔的固定槽连接。

优选的，所述移动板的底部设有卡件，且卡件与封盖板顶部内腔的一体成型夹紧槽滑动连接。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本金属有机化学气相沉积设备通过螺纹支撑杆支撑衬托底盘，螺纹支撑杆的底部设有转动扣，通过转动扣可以调节衬托底盘的高度，以及均衡受热，降温箱内腔的干冰层通过降温管流进反应腔内腔的隔层内部，对反应腔的内部进行快速降温，通过拔开反应腔右侧底部的固定扣，可以让干冰流出。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型封盖板结构示意图。

图中：1反应腔、2衬托底盘、3支撑架、4螺纹支撑杆、5转动扣、6热气管、7加热器、8移动板、9通气孔、10封盖板、11转动轴、12 T字型卡件、13一体成型加紧槽、14降温箱、15降温管、16隔层、17固定扣。

具体实施方式