[实用新型]一种ITO基片有效
| 申请号： | 201820528045.X | 申请日： | 2018-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN208422919U | 公开（公告）日： | 2019-01-22 |
| 发明（设计）人： | 丁磊;廖良生;梁舰 | 申请（专利权）人： | 江苏集萃有机光电技术研究所有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/06 | 分类号： | H01L29/06;H01L51/50;H01L51/52 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215200 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 电荷转移 本实用新型 离型膜 抑制层 有机光电器件 空穴注入层 离型膜剥离 导电薄膜 膜层结构 器件性能 器件制作 依次设置 基板 节约 应用 制造 | ||
【权利要求书】：
1.一种ITO基片，包括依次设置的基板、ITO电极层和离型膜，其特征在于，所述ITO电极层和所述离型膜之间还设置有电荷转移抑制层。
2.根据权利要求1所述的ITO基片，其特征在于，所述ITO基片包括第一功能区和第二功能区，所述电荷转移抑制层位于所述第一功能区。
3.根据权利要求2所述的ITO基片，其特征在于，所述电荷转移抑制层设置在所述ITO电极层上，将所述离型膜剥离后，所述电荷转移抑制层保留在所述ITO电极层上。
4.根据权利要求2所述的ITO基片，其特征在于，所述电荷转移抑制层设置在所述离型膜上，剥离所述离型膜时，所述电荷转移抑制层随所述离型膜一同剥离。
5.根据权利要求4所述的ITO基片，其特征在于，所述电荷转移抑制层与所述离型膜之间还设置有粘结层。
6.根据权利要求2～5中任意一项所述的ITO基片，其特征在于，所述基板上还设置有对位标记。
7.根据权利要求6所述的ITO基片，其特征在于，所述对位标记至少具有一个交点。
8.根据权利要求6所述的ITO基片，其特征在于，所述对位标记设置于基板的任一边缘或任一角处。
9.根据权利要求6所述的ITO基片，其特征在于，所述对位标记与所述基板组合形成的图案，当基板翻转后，将基板沿任意方向平移或旋转任意角度，对位标记与基板组合形成的图案均不能与翻转前重合。
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