[实用新型]溅射镀膜设备

说明书

本实用新型公开了一种溅射镀膜设备，其技术方案要点包括柜体、开设于所述柜体内的真空室、固定于所述真空室中部位置的阴极柱、间隔设置于所述阴极柱外壁周侧的若干立柱，所述立柱的外壁上沿其长度方向套设有放置架，所述柜体位于真空室下方设置有驱动室，所述立柱的一端穿过真空室底面位于驱动室内套接有转动齿轮，所述驱动室内设置有驱动齿轮，所述转动齿轮均与驱动齿轮啮合且驱动齿轮穿过驱动室底面位于柜体底部连接有驱动电机，本实用新型具有提升待镀工件的镀膜效果的效果。

技术领域

本实用新型涉及镀膜技术领域，更具体地说它涉及一种溅射镀膜设备。

背景技术

目前，公告号为CN203284455U的中国专利公开的溅射镀膜装置，包括：真空室，所述真空室底部敞口设置；底板，所述底板设于所述真空室底部敞口下方，且所述底板形状与所述真空室底部敞口形状相适应；夹具旋转机构，所述夹具旋转机构的转轴竖直贯穿所述底板中央，所述转轴的底部和顶部分别连接有动力装置和支撑盘，所述支撑盘水平设置且边缘竖直设有至少一个夹具支撑架，所述夹具支撑架上固定有被镀工件夹具；至少一个靶体，所述靶体与所述夹具支撑架平行设置，所述靶体内腔装有磁铁，所述靶体面对所述夹具支撑架的一侧设有靶材；水冷装置，所述水冷装置通过管道与所述靶体一端连通。

现有技术中类似于上述的溅射镀膜装置，其通过将待镀工件放置于夹具支撑架上，在真空状态下通过电场作用使得氩气电离产生氩离子，氩离子将靶材上的原子打出飞溅至待镀工件上形成膜。现有的镀膜装置的夹具支撑架一般设置为同轴旋转的结构，但由于整个夹具支撑架同轴旋转使得支撑架上的夹具位围绕结局支撑架的转动轴旋转，夹具位于转动轴的相对位置始终保持相对静止的状态，不利于原子在待镀工件的均匀分布，降低了待镀工件的镀膜效果。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种溅射镀膜设备，其优点在于提升待镀工件的镀膜效果。

为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：一种溅射镀膜设备，包括柜体、开设于所述柜体内的真空室、固定于所述真空室中部位置的阴极柱、间隔设置于所述阴极柱外壁周侧的若干立柱，所述立柱的外壁上沿其长度方向套设有放置架，所述柜体位于真空室下方设置有驱动室，所述立柱的一端穿过真空室底面位于驱动室内套接有转动齿轮，所述驱动室内设置有驱动齿轮，所述转动齿轮均与驱动齿轮啮合且驱动齿轮穿过驱动室底面位于柜体底部连接有驱动电机。

通过采用上述技术方案，驱动电机的转轴连接于驱动齿轮，驱动齿轮在驱动电机的驱动下待动啮合于驱动齿轮的转动齿轮开始转动，转动齿轮转动使得连接于转动齿轮的立柱进行自转，位于立柱上套设的放置架随立柱进行自转，使得阴极柱收到离子撞击溅射出的原子与放置架上的待镀工件之间的接触方向增大，原子能更加均匀的沉积在待镀工件的表面，从而提升待镀工件的镀膜效果。

本实用新型进一步设置为：所述若干立柱位于阴极柱外部等间隔周向设置。

通过采用上述技术方案，等间隔周向设置的立柱使得立柱与阴极柱之间的位置与距离均保持相同，有利于阴极柱溅射处的原子均匀沉降在立柱的放置架上，尽量保证每个立柱的每个放置架上待镀工件的镀膜效率与镀膜效果保持一致。

本实用新型进一步设置为：所述真空室底面固定有环形支架，所述环形支架上开设有供所述若干立柱穿过的限位孔。

通过采用上述技术方案，立柱穿设于环形支架上的限位孔中，使得环形支架套设于若干立柱的外周壁，若干立柱通过环形支架向连组合成一个整体，在不影响立柱自转的前提下提升立柱位置的稳定性，避免立柱因自转导致位置不稳定发生偏移倾倒等现象影响正常的镀膜作业。

本实用新型进一步设置为：所处限位孔内壁上径向开设有滑移槽，所述滑移槽内设置有若干滚珠。

通过采用上述技术方案，限位孔上的滑移槽以及滚珠用以在提升限位孔对立柱外壁处的限位加固的同时保证立柱的自转动作的顺畅进行。