[实用新型]膜厚均匀化的镀膜装置有效

专利信息
申请号: 201820438583.X 申请日: 2018-03-29
公开(公告)号: CN208136320U 公开(公告)日: 2018-11-23
发明(设计)人: 陈君;乐务时 申请(专利权)人: 苏州涂冠镀膜科技有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32295 代理人: 叶栋
地址: 215126 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 蒸发源 均化板 固定架 腔体 转轴 本实用新型 镀膜装置 膜厚均匀 所在平面 遮住 转动 厚度一致性 固定工件 转动连接 平面的 侧壁 匀化 遮挡 体内
【说明书】:

实用新型公开了一种膜厚均匀化的镀膜装置,包括腔体,所述腔体内设有固定架,所述固定架用于固定工件,所述腔体的侧壁还设有蒸发源,所述蒸发源和固定架之间还设有均化板,所述均化板通过转轴与所述腔体成转动连接,所述均化板沿转轴与蒸发源的表面所在平面成大于0°,小于90°的夹角范围内转动,从而部分遮住所述蒸发源或完全不遮挡。本实用新型的有益效果在于:通过在蒸发源和固定架之间安装匀化板,均化板沿转轴与蒸发源的表面所在平面成大于0°,小于90°的夹角的范围内转动,部分遮住蒸发源,通过调整均化板与蒸发源平面的合适的夹角,可以实现工件在垂直方向的涂层厚度一致性。

技术领域

本实用新型涉及一种镀膜装置,具体涉及一种膜厚均匀化的镀膜装置,属于真空物理气相镀膜(PVD)设备技术领域。

背景技术

表面处理是一种广泛用于材料和工件表面改性的处理手段,常用的包括热处理、电镀、喷涂、真空镀膜。真空镀膜近些年得到爆发式发展,得益于其多种技术手段和可以处理工件材料广泛性,可以制备的薄膜材料广泛性。

厚度是涂层的一项关键技术指标,决定了镀层产品使用结果的一致性,也决定了同批次和批次间品质的一致性;影响厚度不一致的一个重要原因是真空设备的固有机构造成的,上中下不同位置、直径方向不同位置厚度不同。过去,厚度在光学、半导体功能涂层等一直严格要求,在工具、零件等要求机械性能的产品上没有严格要求,因为pvd涂层本身厚度是微米级,不至于引起工件的安装异常;而目前随之制造业快速进步,微米级管控成为常规要求,pvd涂层的厚度精度和一致性影响了产品的使用,需要对厚度范围和尺寸一致性严格管控。而在这一块,主要关注的是厚度的范围,对于厚度一致性的措施还不多见。

功能涂层由于涂层材料特定,一般采用在线检测来控制膜层厚度和一致性,而由于pvd硬质涂层的特殊性和多样性,厚度无法实现在线检测,靠工艺参数的设定来控制,具有一定的不确定性和跳动范围。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种膜厚均匀化的镀膜装置,从而可实现垂直方向均匀镀膜,而且便于操作,使用方便。

为达到上述目的,本实用新型提供如下技术方案:

本实用新型提供一种膜厚均匀化的镀膜装置,包括腔体,所述腔体内设有固定架,所述固定架用于固定工件,所述腔体的侧壁还设有蒸发源,所述蒸发源和固定架之间还设有均化板,所述均化板通过转轴与所述腔体成转动连接,所述均化板沿转轴与蒸发源的表面所在平面成大于0°,小于90°的夹角范围内转动,从而部分遮住所述蒸发源。

进一步地,所述均化板沿转轴与蒸发源的表面所在平面成30~70°的夹角范围内转动,在该角度范围内可以最好地实现工件在垂直方向的涂层厚度的一致性。

进一步地,所述均化板沿转轴与蒸发源的表面所在平面成30~45°的夹角范围内转动。

进一步地,所述蒸发源的截面为方形或圆形,所述均化板的结构与所述蒸发源的结构相对应,从而可以实现最好地遮挡效果。

进一步地,当所述蒸发源的截面为方形时,所述均化板通过其两端与所述转轴成转动连接。

进一步地,当所述蒸发源的截面为圆形时,所述均化板通过其中间与所述转轴成转动连接。

进一步地,所述固定架包括支撑件和与其连接的固定件,所述固定件上可设有多个工件,所述多个工件沿所述固定件的竖直方向均匀设置。

进一步地,所述固定件与所述固定件成转动连接,从而通过固定件的转动,可使工件在镀膜过程中转动,使镀膜的涂层更为均匀。

进一步地,所述固定架设在所述腔体的中间。

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