[实用新型]膜厚均匀化的镀膜装置

权利要求书

1.一种膜厚均匀化的镀膜装置，包括腔体，其特征在于，所述腔体内设有固定架，所述固定架用于固定工件，所述腔体的侧壁还设有蒸发源，所述蒸发源和固定架之间还设有均化板，所述均化板通过转轴与所述腔体成转动连接，所述均化板沿转轴与蒸发源的表面所在平面成大于0°，小于90°的夹角范围内转动，从而部分遮住所述蒸发源。

2.根据权利要求1所述的膜厚均匀化的镀膜装置，其特征在于，所述均化板沿转轴与蒸发源的表面所在平面成30～70°的夹角范围内转动。

3.根据权利要求2所述的膜厚均匀化的镀膜装置，其特征在于，所述均化板沿转轴与蒸发源的表面所在平面成30～45°的夹角范围内转动。

4.根据权利要求1所述的膜厚均匀化的镀膜装置，其特征在于，所述蒸发源的截面为方形或圆形，所述均化板的结构与所述蒸发源的结构相对应。

5.根据权利要求4所述的膜厚均匀化的镀膜装置，其特征在于，当所述蒸发源的截面为方形时，所述均化板通过其两端与所述转轴成转动连接。

6.根据权利要求4所述的膜厚均匀化的镀膜装置，其特征在于，当所述蒸发源的截面为圆形时，所述均化板通过其中间边缘与所述转轴成转动连接。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的膜厚均匀化的镀膜装置，其特征在于，所述固定架包括支撑件和与其连接的固定件，所述固定件上设有多个工件，所述多个工件沿所述固定件的竖直方向均匀设置。

8.根据权利要求7所述的膜厚均匀化的镀膜装置，其特征在于，所述固定件与所述支撑件成转动连接。

9.根据权利要求8所述的膜厚均匀化的镀膜装置，其特征在于，所述固定架设在所述腔体的中间。