[实用新型]一种用于镀膜的真空蒸发装置

说明书

本实用新型公开了一种用于镀膜的真空蒸发装置，包括蒸发室、镀膜室、真空泵、循环泵和蒸发液进口，所述蒸发室上设置有蒸发液进口，所述蒸发室内设置有蒸发板，所述蒸发室的右侧设置有蒸汽喷嘴，所述蒸发室连接真空泵，所述镀膜室内设置有支架，所述支架上设置有光学玻璃，所述支架的上方喷气管，所述喷气管连接蒸汽喷嘴，所述循环泵的一端连接蒸发液进口、另一端连接镀膜室的底部，所述镀膜室上连接有冷凝器。本实用新型所提供的一种用于镀膜的真空蒸发装置，喷气管上均匀的设置有喷气孔，喷气孔的直径从左向右依次递加，喷气能够均匀的向光学玻璃上喷气，使光学能够均匀的镀膜，从而控制好镀膜的阻值。

技术领域

本实用新型涉及真空蒸发技术领域，特别涉及一种用于镀膜的真空蒸发装置。

背景技术

分光光度当今ITO膜的用途十分广泛，其需求量也很大，尤其在平板的显示领域，不过这种ITO膜是采用溅射蒸发来获得的。本发明是介绍采用真空蒸发的 ITO膜，主要是应用于精密光学领域内的光学元件上，具体来说有两个方面：一是高方阻值的防电磁辐射光学元件，二是低阻值的发热光学元件。

ITO膜也称为透明导电膜，常用的主要材料为氧化铟锡，即In2O3与SnO2的混合料，混合比例一般为：95/5、90/10、80/20等混合比例。它属于N－氧缺陷型半导体材料，载流子浓度约为1020～1021数量级，电阻率为10－4Ω·cm，禁带宽度为3.5～4eV；在紫外波段吸收大、可见光区吸收小、而在中远红外波段又具有加高的反射率。对于上述的两种光学元件来说，主要考虑的是可见光范围，也就是说它们既要具有一定数值的方电阻值，而且还要具有较高的透射率。真空蒸发的ITO膜通常是在高真空镀膜机上采用电子束蒸发来完成的，由于镀膜材料In2O3与SnO2在高温下容易脱氧，故要提高在其可见光范围内的透过率不是一件容易事。根据目前现有的工艺，在光学玻璃上镀一层ITO膜。无论是高方阻值的防电磁辐射光学元件，还是低阻值的发热光学元件，对ITO膜的方阻值的控制还不是很好，还需要进一步的改进。

实用新型内容

针对上述现有的工艺，在光学玻璃上镀一层ITO膜。无论是高方阻值的防电磁辐射光学元件，还是低阻值的发热光学元件，对ITO膜的方阻值的控制还不是很好的问题，本实用新型要解决的技术问题是提供一种用于镀膜的真空蒸发装置。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：

一种用于镀膜的真空蒸发装置，包括蒸发室、镀膜室、真空泵、循环泵和蒸发液进口，所述蒸发室上设置有蒸发液进口，所述蒸发室内设置有蒸发板，所述蒸发室的右侧设置有蒸汽喷嘴，所述蒸发室连接真空泵，所述镀膜室内设置有支架，所述支架上设置有光学玻璃，所述支架的上方喷气管，所述喷气管连接蒸汽喷嘴，所述循环泵的一端连接蒸发液进口、另一端连接镀膜室的底部，所述镀膜室上连接有冷凝器。

上述方案的优选方案为：所述光学玻璃之间设置有烘烤装置，镀完膜的光学玻璃再进行烘烤，确保镀膜的质量。

上述方案的优选方案为：所述喷气管上均匀的设置有喷气孔，所述喷气孔的直径从左向右依次递加，使气体能够均匀的喷到光学玻璃上，从而控制好镀膜的阻值。

上述方案的优选方案为：所述镀膜室的外侧设置有保温装置，防止蒸汽遇到光学玻璃之前就凝华或液化，降低镀膜的效率与质量。

上述方案的优选方案为：所述蒸发板的两侧设置有通电电极，通过对蒸发板进行加热，使液体能够快速的气化。