[实用新型]一种用于直写光刻设备中的MEMS光阑打标装置

说明书

本实用新型提供一种用于直写光刻设备中的MEMS光阑打标装置，包括对准镜筒，依次设置在对准镜筒内的压圈、隔圈、透镜和LED光源，连接在对准镜筒上端的吸盘通光光阑底座，设置在吸盘通光光阑底座内的MEMS光阑，以及连接在对准镜筒下端的LED托板。本实用新型采用MEMS光阑，这种MEMS光阑不同于以往的机械光阑，是利用半导体曝光机及光刻工艺加工而成，光阑孔是图形而不是通孔，可防止灰尘落入打标装置中，且光阑孔具有700nm的超高精度，大大提升了打标装置的精度，从而提高了直写光刻设备的内层对准速度。

技术领域

本实用新型涉及光刻技术领域，具体是一种用于直写光刻设备中的MEMS光阑打标装置。

背景技术

直写光刻设备的对准分为内层对准和外层最准。内层对准是需要利用能量较高、穿透力较强的光源，结合光学准直系统、光阑，将光阑孔的形状印刷在PCB板内层，光阑孔印刷到PCB板内层的点通常称为Mark点。光阑孔的精度直接决定了打标Mark的精度，从而影响直写设备的整体产能。传统机械光阑的精度已无法满足直写光刻设备的需求。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于直写光刻设备中的MEMS光阑打标装置，该装置的打标光阑不同于传统的机械光阑，光阑孔是通过高精度的半导体光刻设备曝光而成的图形而不是通孔，精度可达700nm，远远高于传统的机械光阑。

本实用新型的技术方案为：

一种用于直写光刻设备中的MEMS光阑打标装置，包括对准镜筒，依次设置在对准镜筒内的压圈、隔圈、透镜和LED光源，连接在对准镜筒上端的吸盘通光光阑底座，设置在吸盘通光光阑底座内的MEMS光阑，以及连接在对准镜筒下端的LED托板。

所述的用于直写光刻设备中的MEMS光阑打标装置，所述对准镜筒、吸盘通光光阑底座、压圈、隔圈、透镜、LED光源、LED托板和MEMS光阑的中心均在同一条直线上。

所述的用于直写光刻设备中的MEMS光阑打标装置，所述吸盘通光光阑底座上设有若干点胶孔。

所述的用于直写光刻设备中的MEMS光阑打标装置，所述LED光源的波段为405nm。

本实用新型的有益效果为：

由以上技术方案可知，本实用新型采用MEMS光阑，这种MEMS光阑不同于以往的机械光阑，是利用半导体曝光机及光刻工艺加工而成，光阑孔是图形而不是通孔，可防止灰尘落入打标装置中，且光阑孔具有700nm的超高精度，大大提升了打标装置的精度，从而提高了直写光刻设备的内层对准速度。本实用新型通过MEMS工艺来保证光阑的精度，具有设计合理、结构简单、经济实用、精度高等特点，是直写光刻设备中理想的光阑打标装置。

附图说明

图1是本实用新型的爆炸结构示意图；

图2是吸盘通光光阑底座的结构示意图；

图3是MEMS光阑的结构示意图；

其中：1、对准镜筒，2、吸盘通光光阑底座，3、压圈，4、隔圈，5、透镜，6、LED光源，7、LED托板，8、MEMS光阑，9、点胶孔。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型做进一步说明：

如图1、图3所示，一种用于直写光刻设备中的MEMS光阑打标装置，包括对准镜筒1，自上而下依次设置在对准镜筒1内的压圈3、隔圈4、透镜5和LED光源6，连接在对准镜筒1上端的吸盘通光光阑底座2，设置在吸盘通光光阑底座2内的MEMS光阑8，以及连接在对准镜筒1下端的LED托板7。