[实用新型]一种磁控溅射磁场结构

说明书

本实用新型涉及一种磁控溅射磁场结构，包括基座、第一磁条和第二磁条，基座上端的左右两侧对称安装有第一磁条，前后两侧对称安装有第二磁条，第一磁条和第二磁条围成矩形区域，矩形区域内位于两个第二磁条之间从前往后依次平行布置有第三磁条、第四磁条、第五磁条、第四磁条和第三磁条，第五磁条位于两个第二磁条之间中央位置，第一磁条、第二磁条和第四磁条均是上端为N极、下端为S极，第三磁条和第五磁条均是上端为S极、下端为N极，第三磁条、第四磁条和第五磁条均位于两个第一磁条之间中央位置。本实用通过对磁石的重新分布，使磁力线在靶材表面的分布更加广泛，也就扩大了靶材表面的放电区域，从而提升了靶材的利用率。

技术领域

本实用新型涉及镀膜技术领域，特别是涉及一种磁控溅射磁场结构。

背景技术

在直流磁控溅射镀膜业界中，目前使用的磁控溅射磁场都是低效的，随着产量和成本竞争压力的提升，必定需要有高效的磁控溅射磁场来满足生产需求。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种磁控溅射磁场结构，为矩形高效磁场，电子就以近似摆线形式在靶表面做往复运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，并且在该区域中电离出大量的Ar来轰击靶材，从而实现了高的沉积速率。本实用通过对磁石的重新分布，使磁力线在靶材表面的分布更加广泛，也就扩大了靶材表面的放电区域，从而提升了靶材的利用率。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：提供一种磁控溅射磁场结构，包括基座、第一磁条和第二磁条，所述的基座上端的左右两侧对称安装有第一磁条，前后两侧对称安装有第二磁条，所述的第一磁条和第二磁条围成矩形区域，该矩形区域内位于两个第二磁条之间从前往后依次平行布置有第三磁条、第四磁条、第五磁条、第四磁条和第三磁条，所述的第五磁条位于两个第二磁条之间中央位置，所述的第一磁条、第二磁条和第四磁条均是上端为N极、下端为S极，所述的第三磁条和第五磁条均是上端为S极、下端为N极，所述的第三磁条、第四磁条和第五磁条均位于两个第一磁条之间中央位置。

作为对本实用新型所述的技术方案的一种补充，所述的第一磁条由三块磁石拼接组成，该第一磁条下端通过第一磁石固定座与基座相连，所述的第一磁石固定座呈凸字形状，其中一个磁石位于凸起部上端，剩下两个磁石位于凸起部的两侧，中间磁石的外侧壁与两侧两个磁石的外侧壁持平，且中间磁石的厚度小于两侧两个磁石的厚度。

作为对本实用新型所述的技术方案的一种补充，所述的第二磁条由四块磁石拼接而成，该第二磁条下端通过第二磁石固定座与基座相连，所述的第二磁石固定座呈凹字形状，其中两个磁石位于第二磁石固定座上端的内凹处，另外两个磁石位于内凹处的两侧。

作为对本实用新型所述的技术方案的一种补充，所述的第三磁条由三个相同规格的磁石拼接组成，该第三磁条下端通过第三磁石固定座与基座相连，所述的第三磁石固定座呈矩形。

作为对本实用新型所述的技术方案的一种补充，所述的第四磁条由两个相同规格的磁石拼接而成，该第四磁条下端通过第四磁石固定座与基座相连，所述的第四磁石固定座呈矩形。

作为对本实用新型所述的技术方案的一种补充，所述的第五磁条由两个相同规格的磁石拼接而成，该第五磁条下端通过第五磁石固定座与基座相连，所述的第五磁石固定座呈矩形。

有益效果：本实用新型涉及一种磁控溅射磁场结构，为矩形高效磁场，电子就以近似摆线形式在靶表面做往复运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，并且在该区域中电离出大量的Ar来轰击靶材，从而实现了高的沉积速率。本实用通过对磁石的重新分布，使磁力线在靶材表面的分布更加广泛，也就扩大了靶材表面的放电区域，从而提升了靶材的利用率。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是本实用新型的磁石分布图；