[实用新型]下贴膜装置有效
| 申请号: | 201820296562.9 | 申请日: | 2018-03-02 |
| 公开(公告)号: | CN207909830U | 公开(公告)日: | 2018-09-25 |
| 发明(设计)人: | 胡志豪 | 申请(专利权)人: | 大量科技股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02 |
| 代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨;李林 |
| 地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 晶圆 放置座 膜料 滚压 单元底面 滚压机构 位移单元 贴膜装置 本实用新型 单元放置 单元位移 制造成本 放置槽 贴合膜 翻动 底面 贴合 压抵 制程 平整 驱动 制造 | ||
本实用新型提供一种下贴膜装置,包含有基体及滚压机构,基体的晶圆放置座设有供晶圆单元放置的放置槽,使晶圆单元底面露出于晶圆放置座底面,滚压机构设于晶圆放置座下方,具有位移单元及连接于位移单元的滚压单元;当晶圆单元底面贴合膜料时,将膜料置于晶圆放置座与滚压机构之间,并使位移单元驱动滚压单元位移,让滚压单元压抵膜料,使膜料贴合于晶圆单元底面,避免晶圆单元与膜料之间产生气泡而不平整,且不需翻动晶圆单元,以达到减少制造成本、制造工时以及稳定制程的效果。
技术领域
本实用新型涉及一种下贴膜装置,尤指不需翻转晶圆单元,且能够将膜料平整粘合于晶圆单元底面的下贴膜装置,以达到减少制造成本、制造工时以及稳定制程的效果。
背景技术
现有晶圆单元于切割与劈裂等后段制程前,必需先将膜料粘合至晶圆单元底面当作接着剂,以利后续制程,然而,一般贴膜装置系先将晶圆单元翻转,使晶圆单元的底面朝上后,再通过上贴合机构直接将整张膜料压合于晶圆单元底面,因此,上述贴膜装置必须额外设置翻转机构翻转晶圆单元,无形之中不仅增加制造成本,同时也增加了制造工时,再者,由于上述贴膜装置系直接将整张膜料压合于晶圆单元底面,因此晶圆单元与膜料之间容易产生气泡而不平整,进而影响后续的切割与劈裂等后段制程。
实用新型内容
本实用新型的主要目的乃在于,利用设置于晶圆单元底面下方的滚压机构,于使用时压抵放置于晶圆单元与滚压机构之间的膜料,并位移将膜料贴合于晶圆单元底面,避免晶圆单元与膜料之间产生气泡而不平整,且不需翻动晶圆单元,以达到减少制造成本、制造工时以及稳定制程的效果。
为达上述目的,本实用新型提供一种下贴膜装置,用以对晶圆单元底面贴合膜料,其特征是包含有:
基体,具有基座以及基座上方的晶圆放置座,晶圆放置座设置有供晶圆单元放置的放置槽,使晶圆单元底面露出于晶圆放置座底面;
滚压机构,设置于前述基体的晶圆放置座下方,具有位移单元以及连接于位移单元的滚压单元,且位移单元定位于基体的基座上。
当晶圆单元底面贴合膜料时,将膜料置于晶圆放置座与滚压机构之间,并使位移单元驱动滚压单元位移,让滚压单元压抵膜料,使膜料贴合于晶圆单元底面。
所述的下贴膜装置,其中:该滚压机构的位移单元具有设置于基体的基座上的导轨以及驱动件,导轨位于晶圆放置座的放置槽侧方,且导轨两端之间设置有导槽,而滚压单元具有轴杆以及轴杆上包覆的具有弹性的抵压部,且轴杆端部连接有轴承,轴承位于导轨的导槽内,而驱动件连接于轴杆,并能够驱动轴杆依导槽位移。
所述的下贴膜装置,其中:该基体是在基座上设置有推抵装置,推抵装置具有导柱以及套设于导柱外侧的位移件,且位移件底面设置有弹性元件,而滚压机构的导轨端部连接于位移件。
本实用新型的能够达到减少制造成本、制造工时以及稳定制程的效果,
附图说明
图1是本实用新型的立体外观图。
图2是本实用新型另一视角的立体外观图。
图3是本实用新型于使用时的示意图。
图4是本实用新型推抵装置的剖面图。
附图标记说明:1-基体;11-基座;12-晶圆放置座;121-放置槽;13-推抵装置;131-导柱;132-位移件;133-弹性元件;134-底座;135-限位件;2-滚压机构;21-位移单元;211-导轨;2111-导槽;2112-定位孔;212-驱动件;22-滚压单元;221-轴杆;222-抵压部;223-轴承3-晶圆单元;4-膜料;5-锁固元件。
具体实施方式
请参阅图1至图3所示,由图中可清楚看出,本实用新型设置有基体1以及滚压机构2,其中:
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





