[实用新型]一种基于LCOS技术的曝光机

说明书

本实用新型公开了一种基于LCOS技术的曝光机，包括光源、偏振分光元件PBS、LCOS、投影系统和待曝光工件。其中光源发出的光中p型偏振光通过偏振分光元件PBS后入射到高分辨率的LCOS上，LCOS反射的光为s型偏振光，经偏振分光元件PBS反射后进入投影系统，通过投影系统投射到待曝光工件，使待曝光工件形成曝光。此曝光机并不需要掩膜形成图案，可减少工艺流程及生产成本。由于LCOS具有高分辨率特点，因而可以实现高分辨率高精度的曝光，此曝光机对于推动我国电子产品行业的发展具有重要意义。

技术领域

本实用新型涉及一种曝光机，尤其涉及一种基于LCOS技术的曝光机。

背景技术

印制电路板（PCB）是连接、组装集成电路电子元件的基板，几乎所有的电子设备都离不开印制电路板。在大型电子产品研究过程中，印制电路板的设计和制作直接影响到整个产品的质量和成本。在PCB及微电子器件的制造设备中，曝光机的研制至关重要。

随着电子产业的快速发展，尤其是手机、平板电视、摄像机等家电领域产品以及微型机器人、微型飞行器、微型鱼雷等微型武器产品，都表明高精度高分辨率曝光机有着广泛的应用前景和巨大的应用潜力，但到目前为止，现有的曝光机还不能满足高分辨率的需求。

同时传统曝光机为掩膜式曝光在曝光特定图形前需制作掩膜板，通过掩膜板将特定的图案透射到工作面上形成具有图案的曝光。而本实用新型所述曝光机并不需要掩膜形成图案，可减少工艺流程及生产成本。而相对于数字微镜器件（Digital MicromirrorDevice，简称DMD）无掩膜曝光路线，DMD芯片紫外系列芯片目前仅能支持1920 x 1080分辨率，本实用新型所述曝光机目前可实现4096 x 2400分辨率即实现超过现有无掩膜曝光像素数量的5倍，并在未来可进一步快速提高分辨率。

发明内容

本实用新型要解决的问题是：

现有曝光机还不能满足高分辨率的需求问题。

而本实用新型采用一种基于LCOS技术的曝光机，LCOS即Liquid Crystal onSilicon硅基液晶，是一种反射元件，使入射p型偏振光转变成s型偏振光，通过控制LCOS上每个像素的开关形成所需图形，LCOS反射后的光线作为曝光图案的发生源， LCOS具有大于等于1920 x 1080的分辨率，基于LCOS技术的高分辨率曝光机，可以实现高分辨率高精度的无掩膜曝光，此曝光机具有重要的应用价值和经济意义，将大大推动我国电子产品行业的发展、提高我国在电子技术领域的竞争力。

本实用新型提供一种基于LCOS技术的曝光机，包括光源（1）、偏振分光元件PBS（2）、LCOS（3）、投影系统（4）和待曝光工件（5）。其中光源（1）发出的光中p型偏振光通过偏振分光元件PBS（2）后入射到高分辨率的LCOS（3）上，LCOS（3）反射的光为s型偏振光，经偏振分光元件PBS（2）反射后进入投影系统（4），通过投影系统（4）投射到待曝光工件（5），使待曝光工件（5）形成曝光，为缩小曝光机整体体积，所述曝光机在光路上任意位置加入一个或多个反射镜或棱镜，对光路进行折叠。

所述光源（1）的波长范围为350~470nm，已经经过光学系统整形成与LCOS（3）长宽比相匹配，其出射光数值孔径与投影系统（4）物方数值孔径相匹配。

所述偏振分光元件PBS（2）是偏振分光棱镜，偏振分光元件PBS（2）用于分光，对p型偏振光透过，对s型偏振光反射，s型偏振光与p型偏振光成90度角，如图2所示，入射光A经过偏振分光元件PBS（2），形成反射光线As和透射光线Ap，反射光线As为s型偏振光，对成像没有作用不参与系统工作，透射光线Ap为p型偏振光，射向LCOS（3），LCOS（3）使透射光线Ap从p偏振态转变成s偏振态的反射光线Bs，Bs射向偏振分光元件（2），被偏振分光元件（2）反射。