[实用新型]用于在基底的表面上形成涂层的装置有效

专利信息
申请号: 201820177651.1 申请日: 2018-02-01
公开(公告)号: CN207944145U 公开(公告)日: 2018-10-09
发明(设计)人: K·阿西卡拉 申请(专利权)人: BENEQ有限公司
主分类号: C23C4/12 分类号: C23C4/12
代理公司: 北京汇知杰知识产权代理事务所(普通合伙) 11587 代理人: 吴焕芳;杨勇
地址: 芬兰*** 国省代码: 芬兰;FI
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摘要:
搜索关键词: 侧壁 沉积室 纵向凹槽 基底 本实用新型 内侧壁表面 沉积空间 顶壁 凹槽侧壁 方向延伸 流动通道 向上延伸 向下延伸 液体微滴 雾化器 凹入 竖直 涂覆 凝结 外部
【说明书】:

实用新型涉及一种用于在基底的表面上形成涂层的装置。该装置包括沉积室(100)以及至少一个雾化器(10),其中沉积室(100)具有顶壁(101)和从顶壁(101)向下延伸的至少一个侧壁(102)以限定出沉积空间(200)。该至少一个侧壁(102)包括内侧壁表面(103)和设置于至少一个侧壁(102)上并横向于竖直方向延伸的纵向凹槽(110),该纵向凹槽(110)从内侧壁表面朝向沉积室(100)的沉积空间(200)的外部凹入至少一个侧壁(102)中,该纵向凹槽(110)具有凹槽底部(120)和从凹槽底部(120)向上延伸的相对的凹槽侧壁(122、124)以便形成流动通道。根据本实用新型,该装置防止凝结到沉积室的侧壁上的液体微滴流向待涂覆的基底上。

技术领域

本实用新型涉及一种用于在基底的表面上形成涂层的装置。

背景技术

在现有技术中,用于在基底的表面上形成涂层的装置通常为具有沉积室的装置,其中沉积室包括侧壁和位于沉积室的底部上的基底支撑件。侧壁包括从侧壁的表面朝向沉积室内部延伸的唇缘,使得沿沉积室的侧壁流动的液体微滴流到唇缘而不流到沉积室底部的基底。

现有技术的装置的缺点在于从侧壁的表面延伸出的唇缘也收集来自沉积空间的应流向待涂覆的基底的表面的气溶胶。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供用于在基底的表面上形成涂层的装置,该装置防止凝结到沉积室的侧壁上的液体微滴流向待涂覆的基底上。

根据本实用新型,提供一种用于在基底的表面上形成涂层的装置,所述装置包括:

-沉积室,所述沉积室具有顶壁和从所述顶壁向下延伸的至少一个侧壁,所述顶壁和所述至少一个侧壁限定出在所述沉积室内的沉积空间,以及

-至少一个雾化器,所述至少一个雾化器用于将液相先驱体雾化成微滴以形成气溶胶,

其中,所述至少一个侧壁包括:

-内侧壁表面;

-纵向凹槽,所述纵向凹槽设置于所述至少一个侧壁上并且横向于竖直方向延伸,所述纵向凹槽从所述内侧壁表面朝向所述沉积室的所述沉积空间的外部凹入所述至少一个侧壁中,所述纵向凹槽具有凹槽底部和从所述凹槽底部向上延伸的相对的凹槽侧壁,以便形成流动通道。

本实用新型基于提供用于在基底的表面上形成涂层的装置的构思,其中该装置包括具有沉积空间和至少一个侧壁的沉积室,上述至少一个侧壁包括设置在上述至少一个侧壁上并且横向于竖直方向延伸的纵向凹槽。纵向凹槽从内侧壁表面朝向沉积室的沉积空间的外部凹入所述至少一个侧壁中。纵向凹槽收集凝结到沉积室的侧壁上的液体微滴,从而防止它们流向待涂覆的基底。

根据本实用新型的用于在基底的表面上形成涂层的装置包括具有顶壁和从顶壁向下延伸的至少一个侧壁的沉积室,该顶壁和该至少一个侧壁限定出沉积室内的沉积空间。该装置还包括用于将液相先驱体雾化成微滴以形成气溶胶的至少一个雾化器。该至少一个侧壁包括内侧壁表面和设置在该至少一个侧壁上并且横向于竖直方向延伸的纵向凹槽。纵向凹槽从内侧壁表面朝向沉积室的沉积空间的外部凹入该至少一个侧壁中。纵向凹槽具有凹槽底部和从凹槽底部向上延伸的相对的凹槽侧壁以便形成流动通道。

在装置的一个实施方式中,内侧壁表面限定出内壁表面平面,并且纵向凹槽相对于沉积室的沉积空间在水平方向上设置于内壁表面平面的外侧。在装置的另一实施方式中,纵向凹槽在水平方向上设置作为至少一个侧壁的从沉积室的沉积空间向外凸出的外凸部。

在装置的一实施方式中,该至少一个侧壁具有延伸至顶壁的上端和远离顶壁的下端,并且所述纵向凹槽设置于该至少一个侧壁的下端或者下端的附近处。

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