[实用新型]一种应用于玻璃制品的磁控镀膜生产线

说明书

本实用新型公开了一种设计合理、可防止玻璃制品变形和真空环境稳定的应用于玻璃制品的磁控镀膜生产线。本实用新型包括输送装置，输送装置上设置有真空腔室，真空腔室内设置有四个隔离通道，隔离通道上均设置有玻璃输送通道，四个隔离通道将真空腔室依次分割成第一低真空室、第一高真空室、镀膜室、第二高真空室和第二低真空室，镀膜室内设置有磁控溅射靶，输送装置上的输送辊为陶瓷输送辊，第一低真空室和第二低真空室的两端分别设置有第一抽真空器和第一抽风器，第一高真空室和第二高真空室及镀膜室的两端分别设置有第二抽真空器和第二抽风器，第二抽真空器的下端设置有加热装置。本实用新型应用于磁控镀膜的技术领域。

技术领域

本实用新型涉及磁控镀膜的技术领域,特别涉及一种应用于玻璃制品的磁控镀膜生产线。

背景技术

磁控溅射镀膜是指将涂层材料做为靶阴极，利用氩离子轰击靶材，产生阴极溅射，把靶材原子溅射到工件上形成沉积层的一种镀膜技术。传统的玻璃镀膜大多只采用一个真空腔室，而一个真空腔室容易造成真空环境的不稳定，从而影响玻璃镀膜的质量，另外再现有的磁控镀膜生产设备上的传送装置，大多采用铝合金或者是碳钢制成的输送辊，而玻璃在传送装置不断与输送辊相接触，从而造成玻璃制品在铝合金或碳钢制成的输送辊上发生形变，影响玻璃制品的质量。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供了一种设计合理、可防止玻璃制品变形和真空环境稳定的应用于玻璃制品的磁控镀膜生产线。

本实用新型所采用的技术方案是：本实用新型包括输送装置，所述输送装置上设置有真空腔室，所述真空腔室内设置有四个隔离通道，所述隔离通道上均设置有玻璃输送通道，四个所述隔离通道将所述真空腔室依次分割成第一低真空室、第一高真空室、镀膜室、第二高真空室和第二低真空室，所述镀膜室内设置有磁控溅射靶，所述输送装置上的输送辊为陶瓷输送辊，所述第一低真空室和所述第二低真空室的两端分别设置有第一抽真空器和第一抽风器，所述第一高真空室和所述第二高真空室及所述镀膜室的两端分别设置有第二抽真空器和第二抽风器，所述第二抽真空器的下端设置有加热装置。

进一步的，所述加热装置为电炉。

进一步的，所述镀膜室上设置有镀膜观察窗。

本实用新型的有益效果是：由于本实用新型包括输送装置，所述输送装置上设置有真空腔室，所述真空腔室内设置有四个隔离通道，所述隔离通道上均设置有玻璃输送通道，四个所述隔离通道将所述真空腔室依次分割成第一低真空室、第一高真空室、镀膜室、第二高真空室和第二低真空室，所述镀膜室内设置有磁控溅射靶，所述输送装置上的输送辊为陶瓷输送辊，所述第一低真空室和所述第二低真空室的两端分别设置有第一抽真空器和第一抽风器，所述第一高真空室和所述第二高真空室及所述镀膜室的两端分别设置有第二抽真空器和第二抽风器，所述第二抽真空器的下端设置有加热装置,所以本实用新型通过所述陶瓷输送辊带动玻璃制品依次通过所述第一低真空室、所述第一高真空室、所述镀膜室、所述第二高真空室和所述第二低真空室，所述陶瓷输送辊可以防止玻璃制品在传送过程中发生变形的情况，所述真空腔室内的所述第一低真空室、所述第一高真空室、所述镀膜室、所述第二高真空室和所述第二低真空室，使溅射镀膜的真空环境更加稳定，使玻璃制品镀膜效果更佳。

附图说明

图1是本实用新型的俯视图。

具体实施方式