[实用新型]一种等离子刻蚀机高效率装置

说明书

本实用新型涉及一种等离子刻蚀机高效率装置，属于刻蚀技术领域。一种等离子刻蚀机高效率装置，主体为箱体结构，包括风冷装置和换气装置两部分；所述的风冷装置进一步包含冷却系统、气体控制器和气路分筛，所述的冷却系统和气体控制器均连接计算机，位于箱体内，冷却系统用于控制箱体内的温度，气体控制器用于控制箱体内的氮气的浓度；箱体下表面均布有多个气路分筛，箱体上表面设有进气孔；所述的换气装置进一步包括氮气罐和真空泵，真空泵用于控制氮气罐；氮气罐内的氮气通过氮气管道从箱体上表面的进气孔送入至箱体内。本实用新型的一种可伸缩式修正板装置能大大提高工作效率，提升ICP的产能。

技术领域

本实用新型涉及一种等离子刻蚀机高效率装置，属于刻蚀技术领域。

背景技术

目前ICP刻蚀机台工艺腔室清腔频率较快，一般20~30次就需要工艺清腔保养，工作效率受到较大影响；由于ICP所用反应气体为氯气，所以下片时需等待较长时间让传递腔室内被产品带出的残余有害气体散尽，以免伤害人体和污染环境。使用风冷装置和换气装置可以有效降低工艺腔室保养频率和加快传递腔破腔时间，风冷装置和换气装置的设计和安装需符合以下几个要求：1、两种装置都需要专业的厂家制造和安装。2、风冷装置需要满足冷却腔体的同时不影响正常ICP工艺生产。3、换气装置需要和机台软体相配合，在合适的时间段进行换气动作。

发明内容

本实用新型目的就在于克服上述不足，提供一种等离子刻蚀机高效率装置。

本实用新型的技术方案：

一种等离子刻蚀机高效率装置，主体为箱体结构，包括风冷装置和换气装置两部分；

所述的风冷装置进一步包含冷却系统1、气体控制器2和气路分筛3，所述的冷却系统1和气体控制器2均连接计算机，位于箱体内，冷却系统1用于控制箱体内的温度，气体控制器2用于控制箱体内的氮气的浓度；箱体下表面均布有多个气路分筛3，箱体上表面设有进气孔；

所述的换气装置进一步包括氮气罐5和真空泵6，真空泵6用于控制氮气罐5；氮气罐5内的氮气通过氮气管道4从箱体上表面的进气孔送入至箱体内。

本实用新型的有益效果：本实用新型的一种等离子刻蚀机高效率装置能大大提高工作效率，提升ICP的产能。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图。

图2为本实用新型的换气装置结构示意图。图中：1冷却系统；2气体控制器；3气路分筛；4氮气管道；5氮气罐；6真空泵。

具体实施方式

实施例

如图1所示，一种等离子刻蚀机高效率装置，主体为箱体结构，包括风冷装置和换气装置两部分；所述的风冷装置进一步包含冷却系统1、气体控制器2和气路分筛3，所述的冷却系统1和气体控制器2均连接计算机，位于箱体内，冷却系统1用于控制箱体内的温度，气体控制器2用于控制箱体内的氮气的浓度；箱体下表面均布有多个气路分筛3，箱体上表面设有进气孔；所述的换气装置进一步包括氮气罐5和真空泵6，真空泵6用于控制氮气罐5；氮气罐5内的氮气通过氮气管道4从箱体上表面的进气孔送入至箱体内。

本实用新型方法能有效降低工艺腔室清腔保养频率，降低传递腔室破腔等待时长，提升ICP机台产能。

本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。