[实用新型]一种硅片清洗装置

权利要求书

1.一种硅片清洗装置，包括底座(1)，其特征在于，所述底座(1)为矩形空腔结构，所述底座(1)的底端内壁的中间位置安装有驱动电机(2)，所述驱动电机(2)的输出轴末端贯穿底座(1)的顶端侧壁且连接有转轴(3)，所述转轴(3)远离驱动电机(2)的一端连接有放置板(4)，所述底座(1)的顶端侧壁设置有集水板(5)，所述底座(1)的顶端侧壁设置有环形轨道(6)，所述环形轨道(6)内活动安装有两个移动装置(7)，两个移动装置(7)位于环形轨道(6)的两侧，所述移动装置(7)上连接有支撑杆(8)，两根支撑杆(8)远离移动装置(7)的一端连接有放置板(4)，所述放置板(4)的上表面圆周阵列设置有放置槽(16)，所述底座(1)上表面两侧对称安装有固定杆(9)，两根固定杆(9)之间固定有固定板(10)，所述固定板(10)上表面两侧对称设置有水箱(11)，所述水箱(11)上设置有清洗装置(12)，所述固定板(10)的上表面中间位置安装有风机(13)，所述固定板(10)下表面的中间位置固定有安装架(14)，所述安装架(14)上安装有电热条(15)。

2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置，其特征在于，所述集水板(5)为环形结构，且集水板(5)位于环形轨道(6)的内部，集水板(5)沿圆周方向设置有凹槽。

3.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置，其特征在于，所述移动装置(7)上有移动轮和安装板，移动轮通过轴承安装在安装板上，且移动轮活动安装在环形轨道(6)上，安装板连接有支撑杆(8)。

4.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置，其特征在于，所述放置槽(16)位于集水板(5)的正上方，且放置槽的底端侧壁上均匀设置有通水孔。

5.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置，其特征在于，所述清洗装置(12)包括水管和喷嘴，水管的一端连接有水箱，另一端连接有喷嘴，喷嘴沿水管长度方向等距离设置，水管上设置有水泵。