[实用新型]一种蒸镀机有效

专利信息
申请号: 201820080823.3 申请日: 2018-01-17
公开(公告)号: CN207775337U 公开(公告)日: 2018-08-28
发明(设计)人: 黄俊杰;谷春生;赵鑫 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/54
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 张京波;曲鹏
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 基台 水平度 蒸镀机 测量 距离测量模块 控制驱动模块 数据处理模块 本实用新型 驱动模块 实时调整 真空腔室
【权利要求书】:

1.一种蒸镀机,其特征在于,包括:第一基台和第二基台,还包括:距离测量模块、数据处理模块和驱动模块;其中,

所述距离测量模块,用于测量所述第一基台与所述蒸镀机所放置于的真空腔室顶部之间的多个第一距离,和/或所述第一基台与所述第二基台之间的多个第二距离;

所述驱动模块,用于带动所述第一基台和/或所述第二基台;

所述数据处理模块,与所述距离测量模块和所述驱动模块电连接,用于根据测量得到的多个第一距离,控制所述驱动模块对所述第一基台的水平度进行调整,和/或根据测量得到的多个第二距离,控制所述驱动模块对所述第二基台的水平度进行调整。

2.根据权利要求1所述的蒸镀机,其特征在于,所述距离测量模块包括:第一距离测量单元和/或第二距离测量单元;

所述第一距离测量单元,设置在所述第一基台上,用于测量所述第一基台与所述真空腔室顶部之间的多个第一距离;

所述第二距离测量单元,设置在所述第二基台上,用于测量所述第一基台与所述第二基台之间的多个第二距离。

3.根据权利要求2所述的蒸镀机,其特征在于,所述第一基台包括:相对设置的上基台和下基台、以及用于连接所述上基台和所述下基台的连接部;

所述第一距离测量单元设置在所述上基台靠近所述真空腔室顶部的一侧。

4.根据权利要求3所述的蒸镀机,其特征在于,所述第二距离测量单元设置在所述第二基台靠近所述上基台的一侧。

5.根据权利要求2-4任一所述的蒸镀机,其特征在于,所述第一距离测量单元和/或所述第二距离测量单元包括:多个距离测量子单元。

6.根据权利要求5所述的蒸镀机,其特征在于,所述距离测量子单元包括:距离传感器。

7.根据权利要求1所述的蒸镀机,其特征在于,所述数据处理模块包括:数据处理单元和驱动控制单元;其中,

所述数据处理单元,用于根据测量得到的多个第一距离,获得多个第一补正距离,和/或根据测量得到的多个第二距离,获得多个第二补正距离;

所述驱动控制单元,与所述数据处理单元和所述驱动模块电连接,用于根据所述多个第一补正距离控制所述驱动模块对所述第一基台的水平度进行调整,和/或根据所述多个第二补正距离控制所述驱动模块对所述第二基台的水平度进行调整。

8.根据权利要求7所述的蒸镀机,其特征在于,所述数据处理模块还包括:放大单元;

所述放大单元,与所述数据处理单元电连接,用于放大测量得到的多个第一距离,并将放大后的多个第一距离发送至所述数据处理单元,和/或放大测量得到的多个第二距离,并将放大后的多个第二距离发送至所述数据处理单元。

9.根据权利要求7所述的蒸镀机,其特征在于,所述数据处理单元具体用于根据测量得到的多个第一距离,获取第一基准距离;根据所述第一基准距离和多个第一距离,获得多个第一补正距离,和/或根据测量得到的多个第二距离,获取第二基准距离;根据所述第二基准距离和多个第二距离,获得多个第二补正距离。

10.根据权利要求9所述的蒸镀机,其特征在于,所述第一基准距离包括:多个第一距离的均值或者多个第一距离中的任一第一距离。

11.根据权利要求9所述的蒸镀机,其特征在于,所述第二基准距离包括:多个第二距离的均值或者多个第二距离中的任一第二距离。

12.根据权利要求1所述的蒸镀机,其特征在于,所述驱动模块包括:电机、与所述第一基台连接的第一丝杠和与所述第二基台连接的第二丝杠;

所述数据处理模块具体用于控制所述电机带动所述第一丝杠对所述第一基台的水平度进行调整;和/或控制所述电机带动所述第二丝杠对所述第二基台的水平度进行调整。

13.根据权利要求12所述的蒸镀机,其特征在于,所述电机包括:伺服电机。

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