[实用新型]对准标记重现清洗装置有效

专利信息
申请号: 201820062445.6 申请日: 2018-01-15
公开(公告)号: CN207743208U 公开(公告)日: 2018-08-17
发明(设计)人: 王溯;史筱超;李成克;耿志月;王卫卫 申请(专利权)人: 上海新阳半导体材料股份有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/68;H01L21/02
代理公司: 上海弼兴律师事务所 31283 代理人: 薛琦;何桥云
地址: 201616 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 对准标记 清洗桶 液管 清洗装置 真空管道 喷嘴 晶圆 环形空间 重现 清洗剂 出液口 刻蚀剂 基板 本实用新型 二次污染 真空设备 进液口 内壁 适配 外壁 架设
【权利要求书】:

1.一种对准标记重现清洗装置,用于使晶圆上的对准标记重现,其特征在于,所述对准标记重现清洗装置包括:

基板,所述基板用于放置所述晶圆;

清洗桶,所述清洗桶架设于所述晶圆的上方,所述清洗桶的外壁与内壁之间形成有环形空间;

第一液管,所述第一液管位于所述环形空间内,所述第一液管的出液口对应于所述晶圆上的对准标记,且所述第一液管的出液口的大小与所述对准标记的大小相适配;

喷嘴,所述喷嘴设于所述清洗桶上,所述喷嘴与所述第一液管的进液口相连通,所述喷嘴用于向所述第一液管内通入刻蚀剂和清洗剂;

真空管道,所述真空管道设于所述清洗桶上,所述真空管道与所述环形空间相连通,所述真空管道的远离所述清洗桶的一端用于连接于真空设备。

2.如权利要求1所述的对准标记重现清洗装置,其特征在于,所述第一液管的出液口与所述清洗桶的底部相齐平。

3.如权利要求1所述的对准标记重现清洗装置,其特征在于,所述第一液管的数量与所述对准标记的数量相同。

4.如权利要求1所述的对准标记重现清洗装置,其特征在于,所述对准标记重现清洗装置还包括:

干燥管道,所述干燥管道设于所述清洗桶上,所述干燥管道与所述环形空间相连通,所述干燥管道用于向所述环形空间内通入干燥剂。

5.如权利要求4所述的对准标记重现清洗装置,其特征在于,所述干燥剂为氮气。

6.如权利要求4所述的对准标记重现清洗装置,其特征在于,所述真空管道和所述干燥管道均设于所述清洗桶的顶部。

7.如权利要求1所述的对准标记重现清洗装置,其特征在于,所述对准标记重现清洗装置还包括:

第二液管,所述第二液管设于所述清洗桶的顶部,所述第二液管连接于所述喷嘴和所述第一液管之间,且所述喷嘴、所述第二液管和所述第一液管之间相连通。

8.如权利要求7所述的对准标记重现清洗装置,其特征在于,所述喷嘴包括:

第一喷嘴,所述第一喷嘴与所述第二液管相连通,用于向所述第二液管内通入所述刻蚀剂;

第二喷嘴,所述第二喷嘴与所述第二液管相连通,用于向所述第二液管内通入所述清洗剂。

9.如权利要求1所述的对准标记重现清洗装置,其特征在于,所述基板上设有真空回路,所述晶圆通过真空吸附设于所述基板上。

10.如权利要求1-9中任意一项所述的对准标记重现清洗装置,其特征在于,所述第一液管和所述清洗桶的材质均为聚四氟乙烯。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海新阳半导体材料股份有限公司,未经上海新阳半导体材料股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201820062445.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top