[实用新型]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，包含：

一旋转台，用于保持一基板，并且可绕着一中央轴旋转，所述旋转台内部包含一第一气体通道和一第二气体通道，其中所述第一气体通道的一端位在所述旋转台的基板承载部，且另一端位在旋转台的第一位置，以及所述第二气体通道的一端位在所述旋转台的所述基板承载部，且另一端位在旋转台的第二位置；

一抽气单元，与所述旋转台的所述第一位置连接，用于使所述第一气体通道内保持在一负压状态，进而将所述基板保持在所述旋转台上；以及

一气体供应单元，与所述旋转台的所述第二位置连接，用于供应一保护气体，其中所述保护气体通过所述第二气体通道吹送至所述基板背面上，所述保护气体用于防止施加在所述基板上的处理流体沿所述基板的背面流至所述基板承载部。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述抽气单元包含：

一第一轴封，环绕且包覆住所述旋转台的所述第一位置，包含一第一连接通道；

一第一气室，设置在所述第一轴封与所述旋转台之间，并且和所述第一气体通道连通；以及

一抽气设备，与所述第一轴封的所述第一连接通道连接，用于将所述第一连接通道、所述第一气室和所述第一气体通道内的气体抽出。

3.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，所述气体供应单元包含：一第二轴封，环绕且包覆住所述旋转台的所述第二位置，包含一第二连接通道；

一第二气室，设置在所述第二轴封与所述旋转台之间，并且和所述第二气体通道连通；以及

一气体供应设备，与所述第二连接通道连接，用于在所述第二连接通道、所述第二气室和所述第二气体通道内注入所述保护气体。

4.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，当所述旋转台旋转时，所述抽气单元与所述气体供应单元保持固定不转动。

5.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板处理装置还包含一气体分流环，环绕地设置在所述基板承载部周围，用于将所述气体供应单元供应的所述保护气体分流至多个出气通道，并且所述保护气体通过所述多个出气通道吹送至所述基板背面上。

6.如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，所述气体分流环的边缘与所述基板的边缘相隔一距离，使得所述保护气体会在所述基板上产生从所述基板的背面的中间周围吹向所述基板背面的边缘的气流。

7.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述保护气体包含氮气。

8.一种基板处理装置，其特征在于，包含：

一旋转台，用于保持一基板；

一驱动单元，与所述旋转台连接，用于驱动所述旋转台转动；

一第一轴封，环绕且包覆住所述旋转台的一部分，包含一第一连接通道；以及

一第一气室，设置在所述第一轴封与所述旋转台之间，其中所述第一轴封的所述第一连接通道连接所述第一气室与外部环境，以及其中所述旋转台内部形成有一第一气体通道，其一端连通至所述第一气室，以及另一端连通至所述旋转台的基板承载部。

9.如权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板处理装置还包含一抽气设备，与所述第一轴封的所述第一连接通道连接，其中所述抽气设备用于将所述第一连接通道、所述第一气室和所述第一气体通道内的气体抽出，使得所述第一气体通道内保持在一负压状态，进而将所述基板保持在所述旋转台上。

10.如权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，当所述旋转台转动时，所述第一轴封保持固定不转动。