[实用新型]真空镀膜设备

说明书

一种真空镀膜技术领域的真空镀膜设备，包括：箱体，其具有真空腔；转鼓，其可转动地设置在所述真空腔内，所述膜产品贴附在所述转鼓的外表面以随所述转鼓运动；真空泵，其设置于箱体外；化学源抽吸管道，其连接于转鼓与真空泵之间，且化学源抽吸管道在箱体外的可视区域内设有透明观察窗，镀膜气体从转鼓经化学源抽吸管道输出至真空泵时，途经透明观察窗，所述镀膜气体包括未发生反应的化学源气体与未沉积于膜产品表面的反应生成化合物；腔室抽真空管道，其连接于真空腔与真空泵之间，真空腔内的气体从真空腔经腔室抽真空管道输出至真空泵。本实用新型能够对反应过程中出现的白色粉末进行监控，以便及时调整化学源流量，避免化学源浪费。

技术领域

本实用新型涉及的是一种真空镀膜领域的技术，具体是一种真空镀膜设备。

背景技术

对于真空腔室内的化学反应是否彻底，除了通过RGA(Residual Gas Analyzer，残气分析仪)等装置测试尾气成分来间接判断化学反应彻底程度外，尚无其他直接方法。

经过对现有技术的检索发现，中国专利文献号CN202744624U，公开(公告)日2013.02.20，公开了一种用于真空镀膜设备的观察窗，包括观察窗主体和设在所述观察窗主体上的观察孔，所述观察孔内设有透光玻璃，还包括调光玻璃、保护膜和主动轴，所述观察窗本体上设有安装所述主动轴的孔，所述主动轴穿过所述孔与所述观察窗主体密封连接；所述调光玻璃设置在所述透光玻璃的外侧即所述透光玻璃背离真空镀膜机腔体的一侧，所述保护膜设置在所述透光玻璃的内侧即所述透光玻璃靠近真空镀膜机腔体的一侧。该技术能够直接对真空镀膜腔室内的反应进程进行观察，但是该技术需要采用定制的真空镀膜腔室、结构复杂，且对各零部件的要求较高。

实用新型内容

本实用新型针对现有技术存在的上述不足，提出了一种真空镀膜设备，结构简单，能够对反应过程中出现的白色粉末进行监控，以便及时调整化学源流量，避免化学源浪费。

本实用新型是通过以下技术方案实现的：

本实用新型包括：

箱体，其具有真空腔；

转鼓，其可转动地设置在所述真空腔内，所述膜产品贴附在所述转鼓的外表面以随所述转鼓运动；

真空泵，其设置于箱体外；

化学源抽吸管道，其连接于转鼓与真空泵之间，且化学源抽吸管道在箱体外的可视区域内设有透明观察窗，镀膜气体从转鼓经化学源抽吸管道输出至真空泵时，途经透明观察窗，所述镀膜气体包括未发生反应的化学源气体与未沉积于膜产品表面的反应生成化合物；

腔室抽真空管道，其连接于真空腔与真空泵之间，真空腔内的气体从真空腔经腔室抽真空管道输出至真空泵。

所述透明观察窗固定在柱形结构上，所述柱形结构与化学源抽吸管道固定连接。

所述透明观察窗与柱形结构之间、柱形结构与化学源抽吸管道之间均为密封连接。

所述真空镀膜设备还包括阀门组件，阀门组件包括第一阀门、第二阀门与同步控制机构，其中，第一阀门设于化学源抽吸管道上，在第一阀门开启时，镀膜气体从转鼓经化学源抽吸管道输出至真空泵，在第一阀门关闭时，镀膜气体截止于第一阀门处；第二阀门设于腔室抽真空管道上，在第二阀门开启时，真空腔内的气体从真空腔经腔室抽真空管道输出至真空泵，在第二阀门关闭时，真空腔内的气体截止于第二阀门处；同步控制机构连接第一阀门与第二阀门，所述同步控制机构同步控制第一阀门与第二阀门的开启与关闭。

所述阀门组件还包括监控器，所述的监控器连接第一阀门、第二阀门和同步控制机构并监控第一阀门、第二阀门和同步控制机构的运行状态，当三者的运行状态无法匹配时发出报警信号。

优选地，所述的透明观察窗设置于第一阀门与箱体之间的化学源管道上。

技术效果