[发明专利]一种光刻投影物镜

说明书

本发明实施例提供一种光刻投影物镜，所述光刻投影物镜包括沿光轴顺次排列的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组和第五透镜组，所述第一透镜组、所述第三透镜组均具有负光焦度，所述第二透镜组和所述第四透镜组具有正光焦度，所述第五透镜组的光焦度为0，所述第一透镜组、所述第二透镜组、所述第三透镜组、所述第四透镜组和所述第五透镜组的光焦度的和为0；所述光刻投影物镜还包括光阑；所述第一透镜组、所述第三透镜组和所述第四透镜组均包括非球面透镜，一个所述非球面透镜包括一个非球面表面；所述非球面透镜的数量大于等于4且小于等于8。本发明实施例提供一种光刻投影物镜，以实现减少非球面透镜的数量，降低加工成本。

技术领域

本发明实施例涉及光刻技术，尤其涉及一种光刻投影物镜。

背景技术

光学光刻是一种用光将掩模图案投影复制的技术。集成电路就是由投影曝光装置制成的。借助于投影曝光装置，具有不同掩模图案的图形被成像至基底上，如硅片或LCD板，用于制造集成电路、薄膜磁头、液晶显示板，或微机电(MEMS)等一系列结构。过去数十年曝光设备技术水平不断发展，满足了更小线条尺寸，更大曝光面积，更高可靠性及产率，更低成本的需求。

高的成像性能要求光刻投影物镜能够实现较大的数值孔径(例如大于数值孔径0.5)，且成像的像差控制在合理的范围内，在一些应用场景中，高的成像性能还要求光刻投影物镜能够适用于较长波长(长波长例如大于等于193nm)，现有的光刻投影物镜在高的成像性能要求下需要使用较多的非球面透镜，加工成本高。

发明内容

本发明实施例提供一种光刻投影物镜，以实现减少非球面透镜的数量，降低加工成本。

本发明实施例提供一种光刻投影物镜，所述光刻投影物镜包括沿光轴顺次排列的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组和第五透镜组，所述第一透镜组、所述第三透镜组均具有负光焦度，所述第二透镜组和所述第四透镜组具有正光焦度，所述第五透镜组的光焦度为0，所述第一透镜组、所述第二透镜组、所述第三透镜组、所述第四透镜组和所述第五透镜组的光焦度的和为0；所述光刻投影物镜还包括光阑；

所述第一透镜组、所述第三透镜组和所述第四透镜组均包括非球面透镜，一个所述非球面透镜包括一个非球面表面；所述非球面透镜的数量大于等于4且小于等于8。

可选地，所述第一透镜组以及所述第三透镜组中，所有所述非球面透镜的非球面偏离度均小于0.5mm；所述第四透镜组中存在至少一个非球面偏离度大于等于0.5mm的非球面透镜；或者，

所述第一透镜组以及所述第四透镜组中，所有所述非球面透镜的非球面偏离度均等于0.5mm；所述第三透镜组中存在至少一个非球面偏离度大于等于0.5mm的非球面透镜；

其中，非球面透镜的非球面偏离度为非球面透镜的非球面表面与最佳拟合球面之间的轴向距离。

可选地，所述第四透镜组中存在至少一个具有负光焦度的透镜。

可选地，所述第一透镜组中存在至少一个具有正光焦度的透镜。

可选地，所述第二透镜组包括多个具有正光焦度的透镜；所述第一透镜组中具有正光焦度的透镜的光焦度数值，小于所述第二透镜组中任一透镜的光焦度数值。

可选地，所述第一透镜组和所述第三透镜组均包括弯月透镜。

可选地，所述第一透镜组和所述第四透镜组共至少包括两个所述弯月透镜。

可选地，所述第三透镜组包括至少两个非球面透镜。

可选地，所述光阑位于所述第四透镜组中相邻的两个透镜之间。

可选地，所述第一透镜组包括3个透镜，所述第一透镜组的3个透镜中有2个非球面透镜；

所述第二透镜组包括4个透镜；