[发明专利]有机薄膜的成膜方法及其应用

说明书

本发明涉及一种有机薄膜的成膜方法及其应用，其中有机薄膜的成膜方法包括以下步骤：将成膜所用墨水打印至成膜槽内形成墨水层；对墨水层进行第一次干燥，至成膜槽内的墨水层所在的液面与成膜槽的边缘齐平；对经过第一次干燥的墨水层进行第二次干燥，得到有机薄膜，其中，第一次干燥对应的真空度与第二次干燥对应的真空度不一致。该方法能够提升整个像素内的薄膜均匀性。

技术领域

本发明涉及有机显示技术领域，特别涉及有机薄膜的成膜方法及其应用。

背景技术

有机电致发光二极管(OLED)由于其具有自发光、反应快、视角广、亮度高、轻薄等优点，成为未来显示的主流。采用溶液加工制备OLED显示器，由于其低成本、高产能、易于实现大尺寸等优点，是未来显示技术发展的重要方向，特别是印刷工艺。在印刷工艺中，通常打印完发光层后需要经过一步真空干燥即VCD工艺，使墨水中的溶剂快速挥发干燥，初步形成较为平整的薄膜形貌，后续再通过一步高温退火来形成致密的薄膜。目前采用的VCD工艺设备，通常是由载体和冷凝板构成，载体用于承载基板，冷凝板位于基板的上部，通过控制冷凝板与基板间的距离以及冷凝板的温度以及腔体内的真空度等来调节薄膜的形貌，这种传统的VCD干燥方式通常称为一维真空干燥(one dimension VCD)工艺。然而这种工艺很难避免像素(pixel)内的边缘堆积情况，随着功能层的层数增加，边缘堆积的区域会越来越大，最终导致pixel内的均匀有效的发光区越来越小，影响最终显示面板的性能。

发明内容

基于此，有必要提供一种能够形成均匀薄膜的有机薄膜的成膜方法及其应用。

一种有机薄膜的成膜方法，包括以下步骤：

将成膜所用墨水打印至成膜槽内形成墨水层；

对所述墨水层进行第一次干燥，至成膜槽内的墨水层所在的液面与成膜槽的边缘齐平；

对经过第一次干燥的墨水层进行第二次干燥，得到有机薄膜，其中，所述第一次干燥对应的真空度与所述第二次干燥对应的真空度不一致。

在其中一实施例中，对经过第一次干燥的墨水层进行第二次干燥，得到有机薄膜的步骤具体包括：

在预设温度下等待预设时间，使所述成膜槽内的墨水层进行凝固；

对经过凝固的墨水层进行第二次干燥，得到有机薄膜。

在其中一实施例中，所述预设温度为-50℃～-5℃，所述预设时间为100s～500s。

在其中一实施例中，所述第一次干燥的真空度为20torr～100torr，干燥时间为100s～400s。

在其中一实施例中，采用一维真空干燥工艺进行所述第一次干燥。

在其中一实施例中，用于所述一维真空干燥工艺的一维真空干燥仪器中，冷凝板的温度为5℃～15℃，载体的温度为20℃～30℃，所述载体和所述冷凝板之间的距离为1.5mm-50mm。

在其中一实施例中，所述第二次干燥的真空度为10^-8torr～10^-4torr，干燥时间大于10s。

一种有机薄膜层，所述有机薄膜层根据上述的成膜方法制备所得。

一种电子器件，包括上述有机薄膜层。

在其中一实施例中，所述有机薄膜层为功能层。

上述有机薄膜的成膜方法，通过两次干燥，第一次干燥使成膜槽内的墨水层所在的液面与成膜槽的边缘齐平，然后再改变真空度进行第二次干燥，使像素电极上均匀分布的溶质均匀的沉积在像素电极上，且不会形成边缘堆积区，因此采用上述方法能够提升整个成膜槽内的薄膜均匀性。

附图说明