[发明专利]电致发光器件和显示装置在审
申请号: | 201811643325.6 | 申请日: | 2018-12-29 |
公开(公告)号: | CN111384276A | 公开(公告)日: | 2020-07-07 |
发明(设计)人: | 李哲;宋晶尧;付东 | 申请(专利权)人: | 广东聚华印刷显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 林青中 |
地址: | 510000 广东省广州市广州*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电致发光 器件 显示装置 | ||
1.一种电致发光器件,其特征在于,包括层叠设置的阳极、发光单元和阴极,所述发光单元包括电子注入层,所述电子注入层和所述阴极接触,所述电子注入层包括金属氟化物和低功函数金属,所述金属氟化物选自碱金属氟化物和碱土金属氟化物中的至少一种,所述低功函数金属选自功函数低于4eV的金属元素中的至少一种;所述阴极为透明导电氧化物层。
2.根据权利要求1所述的电致发光器件,其特征在于,所述金属氟化物选自氟化锂、氟化钠、氟化钾、氟化镁和氟化钙中的至少一种;所述低功函数金属选自功函数低于3eV且原子序数大于20的金属元素中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的电致发光器件,其特征在于,所述电子注入层为叠层结构,包括层叠设置的由所述金属氟化物形成的金属氟化物层和至少一层由所述低功函数金属形成的金属层;或者,
所述电子注入层包括至少一层由所述金属氟化物和所述低功函数金属形成的复合层。
4.根据权利要求3所述的电致发光器件,其特征在于,所述电子注入层为叠层结构,所述金属氟化物层的厚度为0.1nm~10nm,所述金属层的厚度为0.1nm~30nm,所述透明导电氧化物层的厚度为1nm~100nm。
5.根据权利要求3所述的电致发光器件,其特征在于,所述电子注入层为叠层结构,所述金属层为由至少一种所述低功函数金属形成的金属单层;或者,
所述金属层为由所述低功函数金属形成的叠层,所述叠层中的每一层金属层均由一种金属形成;或者,
所述金属层为由所述低功函数金属形成的叠层,所述叠层中至少有一层金属层由两种以上的金属形成。
6.根据权利要求3所述的电致发光器件,其特征在于,所述电子注入层为所述复合层,形成所述复合层时,所述金属氟化物的体积百分比含量为60%~97%,所述低功函数金属的体积百分比含量为3%~40%。
7.根据权利要求1~6任一项所述的电致发光器件,其特征在于,所述阴极为铟锌氧化物层、锑锌氧化物层、铟锡氧化物层、氟锡氧化物层、锑锡氧化物层或铝锌氧化物层。
8.根据权利要求7所述的电致发光器件,其特征在于,所述电子注入层包括金属单层和金属氟化物层,所述金属单层为金属钡单层或金属镱单层,所述金属氟化物层为氟化钙层、氟化锂层或氟化钠层,所述金属单层位于所述金属氟化物层和所述阴极之间。
9.根据权利要求8所述的电致发光器件,其特征在于,所述金属单层为金属镱单层,所述金属氟化物层为氟化钠层,所述阴极为铟锌氧化物层。
10.根据权利要求7所述的电致发光器件,其特征在于,所述电子注入层为所述复合层,形成所述复合层的所述低功函数金属为镱或钡,所述金属氟化物为氟化钠或氟化锂;形成所述复合层时,所述低功函数金属和所述金属氟化物的体积用量比为(3~4):(6~7)。
11.根据权利要求10所述的电致发光器件,其特征在于,所述低功函数金属为镱,所述金属氟化物为氟化钠,所述阴极为铟锌氧化物层。
12.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1~11任一项所述的电致发光器件。
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