[发明专利]一种芯片ESD保护电路的仿真电路和方法有效

专利信息
申请号: 201811643069.0 申请日: 2018-12-29
公开(公告)号: CN109752612B 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 刘海飞;何贵振 申请(专利权)人: 西安紫光国芯半导体有限公司
主分类号: G01R31/00 分类号: G01R31/00;G01R1/36;G06F30/367
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 徐文权
地址: 710003 陕西省西安市高新区软件*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 芯片 esd 保护 电路 仿真 方法
【说明书】:

发明提供一种芯片ESD保护电路的仿真电路及方法,通过仿真能够提前找到芯片中抗ESD能力差的器件,并优化电路,提高芯片抗ESD的能力。所述仿真电路包括连接在电源电压VDD和公共接地电压VSS之间的一个ESD激励源,一个ESD保护模块和至少一个功能模块;所述的ESD激励源用于按照设定的ESD电流特性曲线加载ESD电压;所述的ESD保护模块中设置有电源钳位NMOS管NESD,电源钳位NMOS管NESD的漏极设置一个电流监测器Ifail与电源电压VDD连接,源极连接公共接地电压VSS;所述的功能模块中设置有CMOS管N1,CMOS管N1的栅极和漏极之间,以及栅极和源级之间分别设置一个电压监测器Efail。

技术领域

本发明涉及芯片的仿真测试,具体为一种芯片ESD保护电路的仿真电路及方法。

背景技术

现有技术中,每个芯片都包括ESD保护模块和对应的功能模块,如图 1所示。ESD保护模块一般包括大尺寸电源钳位NMOS管NESD,NESD的栅极g1通过电容C1连接到电源VDD,同时通过电阻R1连接到地VSS。

功能模块实现芯片的各种功能,其中包括的CMOS管N1对ESD非常敏感,N1的栅氧很容易被ESD事件破坏,需要重点验证。图1中,Rvdd 是VDD电源从焊盘到ESD保护模块的电源网络电阻,Rvss是VSS从焊盘到ESD保护模块的接地电阻。

当芯片处于PS模式(VDD=+ESD脉冲,VSS=0)的ESD冲击发生时,将有电流从VDD流向VSS,如图2所示。PS模式下的ESD事件发生时,正电流Iesd从VDD焊盘开始,经过Rvdd,流过NESD,再通过Rvss,最后流到VSS焊盘上。如果ESD强度很大,则Iesd很大,则流过NESD的电流很大,可能导致NESD被烧毁,如图2中NESD节点1可能被烧断。同时如果ESD强度大的话,还可能导致N1管的栅漏电压(Vgd)或栅源电压 (Vgs)过大,从而导致栅漏或栅源中间的栅氧绝缘层(节点2或节点3)被击穿。

如何在复杂的ESD事件中,提前预测图2中节点1、节点2和节点3是否会被ESD冲击损坏,对于优化ESD保护方案和电源网络非常有意义。

发明内容

针对现有技术中存在的问题,本发明提供一种芯片ESD保护电路的仿真电路及方法,通过仿真能够提前找到芯片中抗ESD能力差的器件,并优化电路,提高芯片抗ESD的能力。

本发明是通过以下技术方案来实现:

一种芯片ESD保护电路的仿真电路,包括连接在电源电压VDD和公共接地电压VSS之间的一个ESD激励源,一个ESD保护模块和至少一个功能模块;

所述的ESD激励源用于按照设定的ESD电流特性曲线加载ESD电压;

所述的ESD保护模块中设置有电源钳位NMOS管NESD,电源钳位 NMOS管NESD的漏极设置一个电流监测器Ifail与电源电压VDD连接,源极连接公共接地电压VSS;

所述的功能模块中设置有CMOS管N1,CMOS管N1的栅极和漏极之间,以及栅极和源级之间分别设置一个电压监测器Efail。

优选的,电源电压VDD从焊盘到ESD保护模块之间设置电源网络电阻 Rvdd,公共接地电压VSS从焊盘到ESD保护模块之间设置接地电阻Rvss。

优选的,ESD保护模块还包括电容C1和电阻R1电源钳位NMOS管 NESD的栅极通过电容C1连接电源电压VDD,栅极通过电阻R1连接公共接地电压VSS。

一种芯片ESD保护电路的仿真方法,包括如下步骤,

步骤1、确定芯片需要达到的ESD级别;

步骤2、从工厂或客户处得到确定ESD级别的ESD电流特性曲线;

步骤3、通过数学建模,去拟合ESD电流特性曲线;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安紫光国芯半导体有限公司,未经西安紫光国芯半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811643069.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top