[发明专利]自动曝光控制器、自动曝光控制方法及其系统有效
| 申请号: | 201811641201.4 | 申请日: | 2018-12-29 |
| 公开(公告)号: | CN110166701B | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
| 发明(设计)人: | 朱于萱;蔡金融 | 申请(专利权)人: | 奇景光电股份有限公司 |
| 主分类号: | H04N5/235 | 分类号: | H04N5/235 |
| 代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 黄艳 |
| 地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 自动 曝光 控制器 控制 方法 及其 系统 | ||
本申请提供一种自动曝光控制器、自动曝光控制方法及其系统。该自动曝光控制系统包括:摄像机,被配置以自一投影机提取输入影像;关注区域测定电路,被配置以测定输入影像的关注区域;深度解码器,耦接至摄像机以及关注区域测定电路;以及自动曝光控制器,耦接至该投影机、该摄像机以及该深度解码器。深度解码器被配置以产生输入影像的深度图,并依据输入影像的深度图、关注区域来决定解码率数值。自动曝光控制器包括:调整曝光电路,被配置以接收解码率数值以及检测结果,并依据解码率数值的变化重复地调整多个曝光参数。用以调整曝光参数的步阶值依据解码率数值的变化以及检测结果而定。
技术领域
本发明涉及一种控制自动曝光的方法、自动曝光控制器以及自动曝光控制系统,且特别涉及一种结构光深度感知的控制自动曝光的方法、自动曝光控制器以及自动曝光控制系统。
背景技术
电子装置,特别是配备有摄像机以及感测器的电子装置,被广泛地实际应用于现实生活中。执行于电子装置的自动曝光演算法用以自动地调整曝光参数,从而提高电子装置于深度感知应用方便的效能。现有的自动曝光演算法多以处理单一曝光设定或参数(例如提取影像强度)来执行。然而,单一曝光设定或参数并不足以使现有的自动曝光演算法来处理多样化的问题,例如亮度改变以及场景改变、目标对象的深度改变(例如近距目标与远距背景)、目标对象的表面特性差异(例如材料、反射率、颜色等)、噪声、运动模糊等影响解码质量的因素。
因此,我们需要可在深度感知方面增进解码质量的感知深度的自动曝光控制方法。
发明内容
据此,本发明提供在深度感知应用方面增进解码质量的自动曝光控制方法以及自动曝光控制系统。
本发明所提出的自动曝光的控制方法包括以下步骤:接收输入影像;接收输入影像的解码率数值,其中解码率数值依据输入影像的深度图以及关注区域而定;确认输入影像的场景是否改变以得到检测结果;以及依据解码率数值的变化依序调整多个曝光参数。调整曝光参数的步阶值依据解码率数值的变化以及检测结果而定。
本发明还提出一种自动曝光控制系统,其包括摄像机、关注区域测定电路、深度解码器以及自动曝光控制器。摄像机被配置以提取输入影像。关注区域测定电路被配置以测定输入影像的关注区域。深度解码器被配置以依据输入影像的深度图以及关注区域来决定解码率数值。自动曝光控制器包括场景改变检测电路以及曝光调整电路,场景改变检测电路用以接收输入影像以及检测输入影像的场景是否改变,并得到检测结果,曝光调整电路则耦接至场景改变检测电路。曝光调整电路接收解码率数值以及检测结果,并依据解码率数值的变化依序地调整多个曝光参数。调整曝光参数的步阶值依据解码率数值的变化以及检测结果而定。
基于上述,曝光参数依据解码率以及其他条件(例如场景改变条件)被有效地调整。曝光参数设定组合可以增进解码率数值,从而改善深度感知应用的自动曝光控制效能。再者,关注区域的选择与步阶值可进一步提高自动曝光控制方法的效能。
附图说明
附图为增进对本发明的理解而合并在说明书中,并构成说明书的一部分。附图示出本发明的实施例,且与说明内容一起解释本发明的原理。
图1示出包含自动曝光控制器的自动曝光控制系统的方块图,AE控制器依据本发明实施例来提取结构光影像。
图2为依据本发明实施例示出的加权解码率范例。
图3A为依据本发明实施例的曝光调整电路方块图。
图3B为依据本发明实施例示出的解码率数值与曝光参数的关联范例。
图4为依据本发明实施例的自动曝光控制方法流程方块图。
图5为依据本发明实施例的自动曝光控制方法流程图。
附图标记说明:
100:AE控制系统
110:摄像机
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