[发明专利]一种香葱的高产种植方法

说明书

本发明公开了一种香葱的高产种植方法，所述方法包括以下步骤：1）整地：选择土地肥沃、土层深厚疏松的地块，精细整地，然后开沟起垄；2）覆膜：接着在垄上覆盖可降解避光膜，膜上开设有种植孔；3）播种：在种植孔中栽种香葱，每个种植孔中播种1‑2粒葱头，播种深度为3‑4公分，覆土至露芽1‑2mm，然后浇透定植水；4）施肥：A、当香葱苗高5‑8cm时上提苗肥，所述的提苗肥为尿素，施肥量为8‑10kg/亩；B、当香葱苗高12‑15cm时，追施复合肥14‑16kg/亩；C、播种后45‑50天，再次追施复合肥18‑20kg/亩；5）浇水。本发明的香葱种植方法，产量高，长势旺，香味浓郁，品质好，平均每茬比常规方法产量高出20%左右。

技术领域

本发明属于蔬菜种植技术领域，具体涉及一种香葱的高产种植方法。

背景技术

香葱为百合科葱属多年生草本植物，食用嫩叶和假茎，味辛、性温，可作调味和装饰菜，有助消化、解热、通便，我国各地均有栽培。香葱辛香气味浓郁，产品柔嫩，具有杀菌和预防感冒的功效，是一种上等调味香料蔬菜，是我国出口加工蔬菜的主要品种。

现有的香葱种植大多采用种子条播或者撒播的方式，这种方式出苗差，后期移栽定植工序繁杂，而且长势不整齐，香葱品质差。香葱种植过程中需要大量肥料，现有技术中大多采用膨化腐熟鸡粪或者普通化肥作为基肥，但是长期种植情况来看，这些基肥一方面需施量极大，另一方面肥力并不显著，而且对于香葱来说，对土壤要求严格，现在所用的基肥显然不能够满足需求。另一方面，土壤本身以及基肥中容易带有病害，传统的解决方法都是在香葱播种、生长过程中大量使用杀菌杀虫剂，从而导致农残严重。

基于以上问题，有必要发明一种香葱的高产种植方法。

发明内容

本发明的目的在于提供一种长势旺、品质好的香葱的高产种植方法。

本发明的目的是这样实现的，包括以下步骤：

1）整地：选择土地肥沃、土层深厚疏松的地块，精细整地，然后开沟起垄；

2）覆膜：接着在垄上覆盖可降解避光膜，膜上开设有种植孔；

3）播种：在种植孔中栽种香葱，每个种植孔中播种1-2粒葱头，播种深度为3-4公分，覆土至露芽1-2mm，然后浇透定植水；

4）施肥：

A、当香葱苗高5-8cm时上提苗肥，所述的提苗肥为尿素，施肥量为8-10kg/亩；

B、当香葱苗高12-15cm时，追施复合肥14-16kg/亩；

C、播种后45-50天，再次追施复合肥18-20kg/亩；

5）浇水：

生长前期，即播种后20天内，要小水勤浇，保证土壤表皮湿润即可；

生长中期，即播种后20-40天，加大浇水量，保证土壤湿润但未见明水；

生长后期，即播种45天后，浇透水，保证土壤中可见明水为宜。

本发明具有以下有益效果：

1、本发明的香葱种植方法，产量高，长势旺，香味浓郁，品质好，平均每茬比常规方法产量高出20%左右。

2、本发明采用葱头进行种植孔定点播种，不仅出苗快，苗整齐，产量高，品质好，而且便于工作人员规范化操作，有利于农业产业的统一规范化管理，便于扩大推广。

3、本发明的基肥在精细整地前施加，在增加土壤肥力的基础上有效改善土壤结构，不仅能够降低施肥量，而且通过优化肥力结构，绿肥的加入有利于葱头播种前期对营养物质的吸收，沙土、炉渣的加入不仅改善土壤结构而且加入微量元素，促进香葱生长，配合腐熟农家肥持久有效的提供肥力。