[发明专利]基板抛光系统和基板抛光控制方法

说明书

本发明实施例提供一种基板抛光系统和基板抛光控制方法，其中，所述基板抛光系统包括主控设备、变频器、抛光装置，所述抛光装置包括旋转电机、第一伺服电机、第二伺服电机、第一引动器、第二引动器和抛光轮；所述变频器与所述主控设备和所述旋转电机分别连接，所述旋转电机的输出轴与所述抛光轮连接，所述主控设备还与所述第一伺服电机和所述第二伺服电机分别连接，所述第一引动器与所述第一伺服电机的连接，所述第二引动器与所述第二伺服电机连接，所述第一引动器的固定背板与所述第二引动器的活动背板固定连接，所述旋转电机安装于所述第二引动器。本发明通过对基板抛光系统的巧妙化、智能化的设计，能够有效提高玻璃基板的研磨品质。

技术领域

本发明涉及基板制造技术领域，具体而言，涉及一种基板抛光系统和基板抛光控制方法。

背景技术

随着电子技术的不断发展创新，TFT-LCD(Thin Film Transistor-LiquidCrystal Display，液晶显示屏)被广泛应用在各类电子产品中。其中，TFT-LCD显示屏的主要构件为TFT-LCD玻璃基板，其生产过程中的研磨工序在整个生产工序流程中占有重要的地位，而研磨的品质取决于整体研磨设备和生产工艺流程。但现有的G6代基板研磨设备和工艺流程仅仅可以实现对玻璃基板的边部和角部的研磨加工，不能对研磨后的边部进行深层次的抛光处理，无法满足当前的生产需求。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种基板抛光系统和基板抛光控制方法，能够有效解决上述问题。

一方面，本发明较佳实施例提供一种基板抛光系统，用于TFT-LCD玻璃基板的抛光处理，所述基板抛光系统包括主控设备、变频器、抛光装置，所述抛光装置包括旋转电机、第一伺服电机、第二伺服电机、第一引动器、第二引动器和抛光轮；

所述变频器与所述主控设备和所述旋转电机分别连接，所述旋转电机的输出轴与所述抛光轮连接，所述主控设备还与所述第一伺服电机和所述第二伺服电机分别连接，所述第一引动器与所述第一伺服电机的连接，所述第二引动器与所述第二伺服电机连接，所述第一引动器的固定背板与所述第二引动器的活动背板固定连接，所述旋转电机安装于所述第二引动器；

其中，所述变频器用于在所述主控设备的控制下控制所述旋转电机带动所述抛光轮运转以对待处理基板进行抛光处理；所述第一引动器用于在所述第一伺服电机的驱动下带动所述第二引动器延第一方向移动，进而带动所述抛光轮延第一方向运动；所述第二引动器用于在所述第二伺服电机的驱动下带动所述抛光轮延第二方向运动。

在本发明较佳实施例的选择中，所述抛光装置还包括第一支架和第二支架；所述第一支架包括第一安装面以及与该第一安装面垂直的第二安装面，所述第一引动器安装与所述第一安装面，所述第二引动器安装与所述第二安装面，所述旋转电机通过所述第二支架安装与所述第二引动器。

在本发明较佳实施例的选择中，所述抛光装置为两个，且两个所述抛光装置中的抛光轮相对设置，以对位于两个所述抛光装置之间的待处理基板进行抛光处理。

在本发明较佳实施例的选择中，所述基板抛光系统还可包括粗研磨装置和细研磨装置，所述粗研磨装置和细研磨装置分别与所述主控设备连接。

在本发明较佳实施例的选择中，所述基板抛光系统包括液冷设备，所述液冷设备设置于所述旋转电机，且与所述主控设备连接，所述液冷设备用于在所述主控设备的控制下对所述旋转电机进行降温。

在本发明较佳实施例的选择中，所述基板抛光系统还包括温度传感器和报警器，所述温度传感器和报警器分别与所述主控设备连接，且所述温度传感器设置于所述旋转电机，所述主控设备还用于根据所述温度传感器采集的所述旋转电机上的温度值控制所述液冷设备的运行状态，或在所述旋转电机温度过高时控制所述报警器进行报警。