[发明专利]基板抛光系统和基板抛光控制方法

权利要求书

1.一种基板抛光系统，其特征在于，所述基板抛光系统包括主控设备、变频器、抛光装置，所述抛光装置包括旋转电机、第一伺服电机、第二伺服电机、第一引动器、第二引动器和抛光轮；

所述变频器与所述主控设备和所述旋转电机分别连接，所述旋转电机的输出轴与所述抛光轮连接，所述主控设备还与所述第一伺服电机和所述第二伺服电机分别连接，所述第一引动器与所述第一伺服电机的连接，所述第二引动器与所述第二伺服电机连接，所述第一引动器的固定背板与所述第二引动器的活动背板固定连接，所述旋转电机安装于所述第二引动器；

其中，所述变频器用于在所述主控设备的控制下控制所述旋转电机带动所述抛光轮运转以对待处理基板进行抛光处理；所述第一引动器用于在所述第一伺服电机的驱动下带动所述第二引动器延第一方向移动，进而带动所述抛光轮延第一方向运动；所述第二引动器用于在所述第二伺服电机的驱动下带动所述抛光轮延第二方向运动。

2.根据权利要求1所述的基板抛光系统，其特征在于，所述抛光装置还包括第一支架和第二支架；所述第一支架包括第一安装面以及与该第一安装面垂直的第二安装面，所述第一引动器安装与所述第一安装面，所述第二引动器安装与所述第二安装面，所述旋转电机通过所述第二支架安装与所述第二引动器。

3.根据权利要求1所述的基板抛光系统，其特征在于，所述抛光装置为两个，且两个所述抛光装置中的抛光轮相对设置，以对位于两个所述抛光装置之间的待处理基板进行抛光处理。

4.根据权利要求1所述的基板抛光系统，其特征在于，所述基板抛光系统还可包括粗研磨装置和细研磨装置，所述粗研磨装置和细研磨装置分别与所述主控设备连接。

5.根据权利要求1所述的基板抛光系统，其特征在于，所述基板抛光系统包括液冷设备，所述液冷设备设置于所述旋转电机，且与所述主控设备连接，所述液冷设备用于在所述主控设备的控制下对所述旋转电机进行降温。

6.根据权利要求5所述的基板抛光系统，其特征在于，所述基板抛光系统还包括温度传感器和报警器，所述温度传感器和报警器分别与所述主控设备连接，且所述温度传感器设置于所述旋转电机，所述主控设备还用于根据所述温度传感器采集的所述旋转电机上的温度值控制所述液冷设备的运行状态，或在所述旋转电机温度过高时控制所述报警器进行报警。

7.根据权利要求1所述的基板抛光系统，其特征在于，所述基板抛光系统还包括与所述主控设备连接的摄像视觉系统，其中，所述摄像视觉系统用于采集抛光过程中的抛光数据并发送给所述主控设备，使得所述主控设备根据所述抛光数据对所述变频器进行控制。

8.根据权利要求1所述的基板抛光系统，其特征在于，所述主控设备上还设置有用于抛光控制参数输入的人机交互界面。

9.根据权利要求1所述的基板抛光系统，其特征在于，所述主控设备为PLC控制器，该PLC控制器中集成有用于实现对所述第一伺服电机和所述第二伺服电机进行精确位移控制的简单运动模块。

10.一种基板抛光控制方法，其特征在于，应用于上述权利要求1-9中任一项所述的基板抛光系统中的主控设备，所述基板抛光控制方法包括：

响应用户基于人机交互界面输入的抛光控制参数；

根据所述抛光控制参数生成对应的控制程序并控制所述变频器驱动所述抛光装置对待处理基板进行抛光处理；

接收抛光处理过程中摄像视觉系统采集并发送的抛光数据，并根据所述抛光数据对所述控制程序进行调整。