[发明专利]一种低温合成制备氮化硅陶瓷粉体的方法有效
申请号: | 201811612393.6 | 申请日: | 2018-12-27 |
公开(公告)号: | CN109502563B | 公开(公告)日: | 2022-06-17 |
发明(设计)人: | 张宁;徐晨辉 | 申请(专利权)人: | 沈阳大学 |
主分类号: | C01B21/068 | 分类号: | C01B21/068;B82Y30/00;B82Y40/00;C04B35/626;C04B35/584 |
代理公司: | 沈阳东大知识产权代理有限公司 21109 | 代理人: | 梁焱 |
地址: | 110044 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 低温 合成 制备 氮化 陶瓷 方法 | ||
一种低温合成制备氮化硅陶瓷粉体的方法,包括以下步骤:(1)将水玻璃、偶联剂、聚乙二醇和盐酸依次加入水中,搅拌制成凝胶;经水洗和醇洗后作为前驱体凝胶;(2)放入无水乙醇中,搅拌并加入酚醛树脂,搅拌至形成糊状体;烘干制成前驱体粉体;(3)加入氮源混合研磨;(4)置于加热炉中,通入惰性气体将空气驱除,在炉压高于大气压条件下,升温进行氮化合成反应;随炉冷却获得粗粉体;(5)在550~650℃条件下保温2~8小时除碳。本发明的方法可以低温合成氮化硅陶瓷粉体,大幅度降低生产成本,具有广泛的应用前景。
技术领域
本发明属于无机非金属材料领域,特别涉及一种低温合成制备氮化硅陶瓷粉体的方法。
背景技术
氮化硅(Si3N4)陶瓷具有优良的电学和力学性能,引起国内外研究者的广泛关注,随着现代科学技术的飞速发展,氮化硅陶瓷在许多高技术领域必将具有广泛的应用前景;然而,目前氮化硅的制备成本较高,主要原因是合成温度高;如碳热还原法的合成温度一般在1300~1500℃左右,直接氮化法一般在1400~1600℃左右;若能以较低的温度制备出氮化硅粉体,必将会大大提高其商业化进程。
截止目前,规模化工业生产氮化硅陶瓷粉体的方法主要有三种:直接氮化法、碳热还原法和高能球磨法;直接氮化法和碳热还原法对应的主要问题是反应温度高、团聚结块,高能球磨法存在的主要问题是粉体极易被二次污染,不能满足高纯度的要求;其中最具商业化生产能力的方法当属碳热还原方法;因此,开发一种污染少成本低的高纯氮化硅陶瓷粉体的低温合成制备方法,是目前急需解决的问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种低温合成制备氮化硅陶瓷粉体的方法,通过设计原料组分和工艺路线,在低温条件下合成氮化硅粉体,降低生产成本的同时,减少污染,提高产品的纯度。
本发明的方法包括以下步骤:
1、制备前驱体凝胶:准备硅源水玻璃,催化剂盐酸,表面活性剂偶联剂和聚乙二醇,其中盐酸的质量浓度为5~35%;盐酸占水玻璃的体积百分比为1~30%;偶联剂占水玻璃和盐酸总体积的0.01~10.0%,聚乙二醇为水玻璃和盐酸总质量的0.01~10.0%;将水玻璃、偶联剂、聚乙二醇和盐酸依次加入去离子水中,搅拌均匀制成凝胶;将凝胶经水洗和醇洗后,过滤获得的固相作为前驱体凝胶;
2、制备前驱体粉体:将前驱体凝胶放入无水乙醇中,在搅拌条件下加入酚醛树脂,使酚醛树脂在无水乙醇中溶解,前驱体凝胶被分散,直至全部物料形成糊状体;将糊状体置于烘箱中,在65~200℃条件下烘干去除挥发成分,剩余物料随炉冷却至常温,取出研磨制成前驱体粉体;其中酚醛树脂与水玻璃的摩尔比为0.5~10;
3、制备复合前驱体粉体:向前驱体粉体中加入氮源尿素或三聚氰胺,混合研磨均匀,制成复合前驱体粉体;其中氮源与水玻璃的摩尔比为5~60;
4、合成氮化硅粗粉体:将复合前驱体粉体置于加热炉中,通入惰性气体吹扫将空气驱除,然后在加热炉内气压高于大气压的条件下,升温至800~1000℃后保温2~5小时,进行氮化合成反应;反应后的物料随炉冷却至常温,获得氮化硅粗粉体;
5、脱碳处理:将氮化硅粗粉体置于电阻炉内,在550~650℃条件下保温2~8小时,使残留的碳去除,然后物料随炉冷却至常温,再研磨制成氮化硅陶瓷粉体。
上述的惰性气体为氮气或氩气。
上述的聚乙二醇的聚合度为2000~20000。
上述的步骤1中,去离子水的用量以去离子水与盐酸混合后,全部溶解水玻璃、偶联剂和聚乙二醇为准。
上述的步骤2中,无水乙醇的用量以将全部酚醛树脂溶解为准。
上述的氮化硅陶瓷粉体的粒径100~1000纳米。
上述的步骤4中,升温和保温时控制加热炉内气压高于大气压。
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