[发明专利]磁性元件、使用其的涡电流式传感器、研磨装置、研磨方法以及计算机可读取记录介质

说明书

提供一种使形成于被研磨物的磁场更强的磁性元件以及使用该磁性元件的涡电流式传感器。涡电流式传感器具有：作为磁性体的底面部、设于底面部的中央的磁心部、设于底面部的周边部的周壁部。涡电流式传感器另外还具有配置在磁心部的外周，能够产生磁场的励磁线圈；配置于周壁部的外周，能够产生磁场的励磁线圈。

技术领域

本发明涉及磁性元件以及使用该磁性元件的涡电流式传感器。

背景技术

近年来，随着半导体装置的高集成化的进步，电路的配线逐渐细微化，配线间距离也变得更窄。在此，需要使被研磨物即半导体晶片的表面平坦化，但作为该平坦化法的一个方法，利用研磨装置进行研磨(抛光)。

研磨装置具有：用于保持对被研磨物进行研磨的研磨垫的研磨台、用于保持被研磨物并向研磨垫按压的顶环。分别利用驱动部(例如电机)驱动研磨台和顶环旋转。通过使含有研磨剂的液体(浆料)在研磨垫上流动，并将被顶环保持的被研磨物按压到研磨垫，而研磨被研磨物。

在研磨装置中，在被研磨物的研磨不充分时，电路间不绝缘而可能发生短路，另外，在过度研磨的情况下，会产生由于配线的截面积减少而导致阻抗值上升，或配线本身被完全除去，而不能形成电路本身等问题。因此，在研磨装置中，需要检测最佳研磨终点。

作为如上所述的技术，有日本特开2017-58245号记载的结构。在该技术中，为了检测研磨终点而使用涡电流式传感器，该涡电流式传感器使用了所谓罐型的线圈。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：(日本)特开2017-58245号

在被研磨物的表面，有金属以较宽面状(团块状)分布的情况和铜等细配线在表面局部地存在的情况。在表面局部地存在的情况下，要求在被研磨物流动的涡电流密度比金属以较宽面状分布的情况大，即，涡电流式传感器在被研磨物形成的磁场更强。

发明内容

发明要解决的技术课题

本发明的一方式为了解决上述问题点，其目的在于提供一种使形成于被研磨物的磁场更强的磁性元件以及使用该磁性元件的涡电流式传感器。

用于解决技术课题的技术方案

为了解决上述课题，在第1方式中，采用一种磁性元件，具有：底部磁性体；中央磁性体，该中央磁性体设于所述底部磁性体的中央；周边部磁性体，该周边部磁性体设于所述底部磁性体的周边部；能够产生磁场的内部线圈，该内部线圈配置在所述中央磁性体的外周；以及能够产生磁场的外部线圈，该外部线圈配置在所述周边部磁性体的外周。

在本实施方式中，具有配置在周边部磁性体的外周，能够产生磁场的外部线圈。因此，以往仅有配置在中央磁性体的外周，能够产生磁场的内部线圈，而根据本实施方式，与以往相比，能够强化磁场。

在第2方式中，在采用第1方式记载的磁性元件的基础上，所述底部磁性体具有柱状的形状，所述周边部磁性体配置在所述柱状的形状的两端。磁性元件例如能够是E型的线圈。

在第3方式中，在采用第1方式记载的磁性元件的基础上，所述周边部磁性体在所述底部磁性体的周边部设置多个。周边部磁性体的数量可以是两个，三个，四个，六个等，可以是多极线圈。

在第4方式中，在采用第1方式记载的磁性元件的基础上，所述周边部磁性体是以包围所述中央磁性体的方式设于所述底部磁性体的周边部的壁部。周边部磁性体可以是圆筒形、四边形的筒形状等。这些形状与以往的罐型的线圈的形状相同。但是，在以往的罐型的线圈中，不存在配置在周边部磁性体的外周，能够产生磁场的外部线圈。因此，第4方式与以往的罐型的线圈相比，能够强化磁场。

在第5方式中，在采用第1方式至第4方式中任一项所述的磁性元件的基础上，所述内部线圈和所述外部线圈能够电并联连接。