[发明专利]光电扫描器

说明书

本发明提供了一种光学器件，具有至少两个不平行的表面，两个表面之间填充双折射材料。本发明还提供光学系统及控制系统。本发明通过施加电压的变化和/或期间，使得出射光的出射参数发生变化，实现扫描功能；进一步地，通过控制系统对光学器件和光源进行同步控制可提高扫描的质量。

技术领域

本发明涉及光学领域，具体地，涉及光学器件和光学系统及控制系统。

背景技术

电光调制器的基础是电光效应。根据电光晶体的折射率变化量和外加电场强度的关系，电光效应可分为线性电光效应(泡克耳斯效应)和二次电光效应(克尔效应)。因为线性电光效应比二次电光效应的作用效果明显，因此实际中多用线性电光调制器对光波进行调制。线性电光调制器可分为纵向的和横向的。在纵向的调制器中，电场平行于光的传播方向，而横向调制器的电场则垂直于光传播的方向。

现有技术中通常利用电光效应，实现对光信号的相位、幅度、强度以及偏振状态的调制，而未见有对光线的出射角度以及出射位置等参数的调制。

发明内容

针对现有技术中的缺陷，本发明的目的是提供一种光学器件和光学系统及控制系统。

根据本发明提供的一种光学器件，具有至少两个不平行的表面，两个表面之间填充双折射材料。

优选地，两个表面上制有电极，能够施加电压。

优选地，所述双折射材料能够根据所施加电压大小和/或电压作用时间长短改变有效折射率。

优选地，所述双折射材料为液晶。

优选地，所述液晶采用ECB或VA模式封装。

优选地，所述两个表面面对双折射材料的一侧制有配向膜，所述两个表面上的配向膜的配向方向一致。

优选地，所述表面全部或部分区域制有反射区。

优选地，所述表面全部或部分区域制有增透膜。

优选地，所述两个表面延光入射方向厚度变化。

优选地，所述两个表面所在波导器件的截面为三角形或楔形。

根据本发明提供的一种光学系统，包括所述的至少一件光学器件，还包括光源，其中，所述光学器件的入射光来自于光源。

优选地，所述光源为激光。

优选地，所述入射光为平行光或近似平行光。

优选地，所述入射光偏振方向与配向方向一致。

优选地，还包括耦合器件，耦合器件将光源发出的光耦合入所述光学器件。

优选地，所述耦合器件为三角形棱镜和/或光栅器件。

优选地，还包括位于光路上的光学元件。

根据本发明提供的一种控制系统，控制或者对所述的至少一件光学器件的两个表面施加电信号。

优选地，针对多块光学器件，控制系统分别在不同时间对不同的光学器件施加电压，并输出同步信号和/或控制光源输入对应的光学器件。

优选地，所述电信号为固定电压、变化电压中的至少一种，或者是设定波形、变化波形中的至少一种。

优选地，所述控制系统连接光源，和/或接收光学器件。

优选地，所述控制系统对光学器件施加周期性的电信号。

优选地，所述控制系统对光学器件两个表面在设定周期内施加的电压差之和为0。

优选地，所述控制系统，输出同步信号。