[发明专利]光电扫描器

权利要求书

1.一种光学器件，其特征在于，具有至少两个不平行的表面，两个表面之间填充双折射材料；

光入射所述光学器件后，会在所述光学器件内经历至少一次全反射；

通过施加电压改变器件内双折射介质的有效折射率，使得出射光的出射参数发生变化。

2.根据权利要求1所述的光学器件，其特征在于，两个表面上制有电极，能够施加电压。

3.根据权利要求2所述的光学器件，其特征在于，所述双折射材料能够根据所施加电压大小和/或电压作用时间长短改变有效折射率。

4.根据权利要求1所述的光学器件，其特征在于，所述双折射材料为液晶。

5.根据权利要求4所述的光学器件，其特征在于，所述液晶采用ECB或VA模式封装。

6.根据权利要求1所述的光学器件，其特征在于，所述两个表面面对双折射材料的一侧制有配向膜，所述两个表面上的配向膜的配向方向一致。

7.根据权利要求1所述的光学器件，其特征在于，所述表面全部或部分区域制有反射区。

8.根据权利要求1所述的光学器件，其特征在于，所述表面全部或部分区域制有增透膜。

9.根据权利要求1所述的光学器件，其特征在于，所述两个表面延光入射方向厚度变化。

10.根据权利要求1所述的光学器件，其特征在于，所述两个表面所在波导器件的截面为三角形或楔形。

11.一种光学系统，其特征在于，包括权利要求1至10中任一项所述的至少一件光学器件，还包括光源，其中，所述光学器件的入射光来自于光源。

12.根据权利要求11所述的光学系统，其特征在于，所述光源为激光。

13.根据权利要求11所述的光学系统，其特征在于，所述入射光为平行光或近似平行光。

14.根据权利要求11所述的光学系统，其特征在于，所述入射光偏振方向与配向方向一致。

15.根据权利要求11所述的光学系统，其特征在于，还包括耦合器件，耦合器件将光源发出的光耦合入所述光学器件。

16.根据权利要求15所述的光学系统，其特征在于，所述耦合器件为三角形棱镜和/或光栅器件。

17.根据权利要求11所述的光学系统，其特征在于，还包括位于光路上的光学元件。

18.一种控制系统，其特征在于，控制或者对权利要求1至10中任一项所述的至少一件光学器件的两个表面施加电信号。

19.根据权利要求18所述的控制系统，其特征在于，针对多块光学器件，控制系统分别在不同时间对不同的光学器件施加电压，并输出同步信号和/或控制光源输入对应的光学器件。

20.根据权利要求18所述的控制系统，其特征在于，所述电信号为固定电压、变化电压中的至少一种，或者是设定波形、变化波形中的至少一种。

21.根据权利要求18所述的控制系统，其特征在于，所述控制系统连接光源，和/或接收光学器件。

22.根据权利要求18所述的控制系统，其特征在于，所述控制系统对光学器件施加周期性的电信号。