[发明专利]提高砷化镓衬底减薄后表面洁净度的磨料及加工方法在审

专利信息
申请号: 201811587353.0 申请日: 2018-12-25
公开(公告)号: CN111363519A 公开(公告)日: 2020-07-03
发明(设计)人: 胡夕伦;吴向龙;闫宝华 申请(专利权)人: 山东浪潮华光光电子股份有限公司
主分类号: C09K3/14 分类号: C09K3/14;B24B1/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 261061 *** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 提高 砷化镓 衬底 减薄后 表面 洁净 磨料 加工 方法
【权利要求书】:

1.一种提高砷化镓衬底减薄后表面洁净度的磨料,其特征在于,包括如下步骤:

a)将二乙醇酰胺硬脂酸甘油单酯、二月桂基二甲基氯化铵、烷氧基聚氧乙烯基硫酸酯、1-羧甲基钠-1-β-羟乙基-2-烷基-咪唑啉氢氧化钠按1.5-2:2-3:2-3:1的比例混合形成调节剂;

b)将纯水加热至40-60℃,保温5-15min;

c)将调节剂加入到纯水中,并搅拌均匀,搅拌时间为30-60min,搅拌完成后保温10-30min;

d)将氧化铝微粉加入到纯水中,并搅拌均匀,搅拌时间为30-60min;

e)将金刚砂微粉加入到纯水中,并搅拌均匀,搅拌时间为30-60min,搅拌后制成磨料,磨料中各组分体积百分含量为:纯水50-69vol.%、调节剂0.5-3.0vol.%、金刚砂微粉20-30%vol.%、氧化铝微粉10-20%vol.%。

2.根据权利要求1所述的提高砷化镓衬底减薄后表面洁净度的磨料,其特征在于:步骤c)中搅拌时间为40-60min,保温20-30min。

3.根据权利要求1所述的提高砷化镓衬底减薄后表面洁净度的磨料,其特征在于:步骤d)中氧化铝微粉的颗粒直径为3-15μm。

4.根据权利要求1所述的提高砷化镓衬底减薄后表面洁净度的磨料,其特征在于:步骤e)中金刚砂微粉的颗粒直径为5-20μm。

5.一种使用权利要求1中的磨料对砷化镓衬底减薄的加工方法,其特征在于,包括如下步骤:

a)将需要减薄的砷化镓衬底放置到研磨机中,研磨机中按流量3-20ml/min的速度向研磨盘表面喷射由纯水、调节剂、氧化铝微粉及金刚砂微粉构成的磨料,研磨机研磨压力为1-10Kg,研磨轮和研磨盘的转速为15-25转/分;

b)减薄完成后将砷化镓衬底用纯水冲洗干净并吹干;

c)将砷化镓衬底放置于乙醇溶液中清洗3-10min;

d)使用白膜粘附于砷化镓衬底表面,在200倍显微镜下检验视野内白膜表面颗粒数量。

6.根据权利要求5中的砷化镓衬底减薄的加工方法,其特征在于:步骤a)中磨料流量为7-9ml/min,磨机研磨压力为5-7Kg,研磨轮的转速为17-20转/分。

7.根据权利要求5中的砷化镓衬底减薄的加工方法,其特征在于:步骤c)中利用乙醇容易清洗时间为5-7min。

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