[发明专利]曝光装置及其对位曝光方法

权利要求书

1.一种对位曝光方法，包括：

提供基板至第一曝光机台，其中该基板包括多个第一区域及多个第二区域，该些第一区域与该些第二区域未重叠，各该第一区域的尺寸小于各该第二区域的尺寸，各该第一区域与各该第二区域分别具有多个定位点；

利用该第一曝光机台对所有该定位点执行对位工序以得到补偿信息；

利用该第一曝光机台根据该补偿信息对该基板的各该第一区域进行曝光来执行第一曝光工序；

传送该基板至第二曝光机台；以及

利用该第二曝光机台根据该补偿信息及至少一基准点对该基板的各该第二区域进行曝光来执行第二曝光工序，其中该至少一基准点为对应该些第二区域的该些定位点中的至少一者。

2.如权利要求1所述的对位曝光方法，其中执行该对位工序的步骤包括：

将第一光掩模的多个第一光掩模定位点分别与该基板的各该第一区域的该些定位点对准；

将第二光掩模的多个第二光掩模定位点分别与该基板的各该第二区域的该些定位点对准；以及

根据该些第一光掩模定位点、该些第二光掩模定位点与该些定位点的一对准结果，以得到该补偿信息。

3.如权利要求1所述的对位曝光方法，其中该利用该第一曝光机台根据该补偿信息对该基板的各该第一区域进行曝光来执行该第一曝光工序的步骤包括：

依据该补偿信息得到第一曝光参数；以及

利用该第一曝光机台依循各该第一曝光参数对该基板的各该第一区域进行曝光来执行该第一曝光工序。

4.如权利要求1所述的对位曝光方法，其中该利用该第二曝光机台根据该补偿信息对该基板的各该第二区域进行曝光来执行该第二曝光工序的步骤包括：

依据该补偿信息得到第二曝光参数；以及

利用该第二曝光机台依循各该第二曝光参数对该基板的各该第二区域进行曝光来执行该第二曝光工序。

5.如权利要求1所述的对位曝光方法，其中该些第一区域及该些第二区域分别具有相连的长边及短边，该些第一区域沿第一方向排列，各第一区域的该长边平行于该第一方向且各第一区域的该短边平行于一第二方向，该些第二区域沿该第一方向排列，各该第二区域的该长边平行于该第二方向且各第二区域的该短边平行于该第一方向。

6.如权利要求1所述的对位曝光方法，还包括：

从该第一曝光机台传送该补偿信息至该第二曝光机台。

7.如权利要求1所述的对位曝光方法，还包括：

从该第一曝光机台输出该补偿信息给一控制模块；

由该控制模块基于该补偿信息得到一补偿条件；以及

提供该补偿条件给该第二曝光机台。

8.一种曝光装置，其特征在于，包括：

第一曝光机台，对一基板所包括的多个第一区域的多个定位点及多个第二区域的多个定位点执行对位工序以得到补偿信息，根据该补偿信息对该基板的各该第一区域进行曝光来执行第一曝光工序，其中，各该第一区域的尺寸小于各该第二区域的尺寸；以及

第二曝光机台，根据该补偿信息及至少一基准点对该基板的各该第二区域进行曝光来执行第二曝光工序，其中该至少一基准点为对应该些第二区域的该些定位点中的至少一者。

9.如权利要求8所述的曝光装置，其中该第一曝光机台将第一光掩模的多个第一光掩模定位点分别与该基板的各该第一区域的该些定位点对准及将第二光掩模的多个第二光掩模定位点分别与该基板的各该第二区域的该些定位点对准，该第一曝光机台根据该些第一光掩模定位点、该些第二光掩模定位点与该些定位点的对准结果以得到该补偿信息，该第一曝光机台依据该补偿信息得到第一曝光参数且依循该第一曝光参数对该基板的各该第一区域进行曝光来执行该第一曝光工序，该第二曝光机台接收来自该第一曝光机台的补偿信息并依据该补偿信息得到第二曝光参数且依循该第二曝光参数对该基板的各该第二区域进行曝光来执行该第二曝光工序。

10.如权利要求9所述的曝光装置，还包括：

控制模块，接收来自该第一曝光机台输出的该补偿信息，该控制模块基于该补偿信息得到补偿条件并提供该补偿条件给该第二曝光机台。