[发明专利]一种清理装置

说明书

本发明提供了一种清理装置，涉及工业设备领域。包括：承载架和清洁组件，所述承载架能够在所述真空溅射镀膜设备内移动，所述承载架上设有第一滑道，所述第一滑道上设有第二滑道，所述第二滑道能够沿所述第一滑道往复运动，所述清洁组件设置于所述第二滑道上，所述清洁组件能够沿所述第二滑道往复运动，所述第一滑道与所述第二滑道垂直，所述清洁组件用于对真空溅射镀膜设备内部进行清洁。本发明提供的清理装置通过溅射腔室内的进口和出口出入溅射腔室，并在进入溅射腔室后对溅射腔室进行清洁。避免了对溅射腔室进行开腔清洁，既能保证溅射腔室的清洁度，也不会因开腔导致对靶材等造成污染，大大节约了人力物力。

技术领域

本发明涉及工业设备领域，具体而言，涉及一种清理装置。

背景技术

作为目前最先进最有发展前景的薄膜发电技术之一，CIGS太阳能电池产业化发展已经开始在中国推广，并得到政府的大力支持。其具有轻薄的特点，可用玻璃、钢、塑料等材料作为基底，并且能制成刚性或柔性的太阳能组件，在建筑、车辆、户外运动、旅游等等方面都可广泛应用。

PVD真空溅射镀膜设备是工业生产中的基础设备，其具有沉积速度快、膜厚均匀性好，能大规模连续作业的优点。在CIGS生产工艺中PVD技术被广泛使用。PVD真空溅射镀膜设备在进行磁控溅射时对于溅射腔室的清洁度要求比较高，如果溅射腔室内部有杂物存在，不仅会造成产品不良，还会造成靶材短路，使机台被迫停机，并进行开腔检修。

在检修需要开腔时，靶材和腔室内器件完全暴露在空气中，靶材和腔室内器件的表面会吸附渗入大量的杂质气体(空气和水汽)，暴露的时间越长吸附的杂质越多。在生产时这些杂质气体会缓慢释放，对溅射腔室内的整体气氛形成改变，从而影响PVD真空溅射镀膜设备的正常工作。故而，在每次进行开腔后，都需要更多的时间(一般还要溅射掉靶材表面层，简称烧靶)来讲溅射腔室恢复到无污染高真空状态，所以开腔是一种迫不得已的最终检修手段。

然而，PVD真空溅射镀膜设备在生产过程中也会产生的杂物，比如溅射到腔体内金属挡板上较厚的溅射废膜，在热胀冷缩或者偶然剐蹭下会有细小的片状膜层脱落，这些片状物脱离时若崩落到靶材接缝会伤害靶材，若填充到某些绝缘接缝处会导致靶材与机台导电，损害电源系统或者导致机台启动自保护系统强制停机。

由此可见，这些片状杂物是必然会出现的，而且一旦堆积过多，也必然会造成各种不良影响。所以一旦出现上述问题，必然需要开腔清理，而开腔清理就意味着停产，必然浪费大量时间及人力物力。

发明内容

本发明提供了一种清理装置，旨在改善PVD真空溅射镀膜设备当溅射腔室出现杂物时，只能进行开腔清理的问题。

本发明是这样实现的：

一种清理装置，设置于真空溅射镀膜设备内部，包括：承载架和清洁组件，所述承载架能够在所述真空溅射镀膜设备内移动，所述承载架上设有第一滑道，所述第一滑道上设有第二滑道，所述第二滑道能够沿所述第一滑道往复运动，所述清洁组件设置于所述第二滑道上，所述清洁组件能够沿所述第二滑道往复运动，所述第一滑道与所述第二滑道垂直，所述清洁组件用于对真空溅射镀膜设备内部进行清洁。

进一步地，在本发明较佳的实施例中，所述清洁组件包括承载板、摄像头和粘取组件，所述承载板设置所述第二滑道上，所述摄像头和所述粘取组件均设置于所述承载板上，所述粘取组件具有粘性。

进一步地，在本发明较佳的实施例中，所述粘取组件包括第一伸缩杆和胶团，所述第一伸缩杆一端与所述承载板转动连接，另一端与所述胶团连接，所述胶团具有粘性。

进一步地，在本发明较佳的实施例中，所述清洁组件还包括清扫组件，所述清扫组件包括第二伸缩杆和扫刷，所述第二伸缩杆一端与所述承载板转动连接，另一端与所述扫刷连接。

进一步地，在本发明较佳的实施例中，所述清理装置还包括吸尘器，所述吸尘器设置于所述承载架上。