[发明专利]真空装置、真空系统、设备制造装置、设备制造系统以及设备的制造方法有效
申请号: | 201811571926.0 | 申请日: | 2018-12-21 |
公开(公告)号: | CN110391151B | 公开(公告)日: | 2023-09-12 |
发明(设计)人: | 小林康信 | 申请(专利权)人: | 佳能特机株式会社 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;C23C14/04;C23C14/24;C23C14/54;C23C14/56 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 刘日华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空 装置 系统 设备 制造 以及 方法 | ||
本发明的真空装置是用于对多个处理空间进行排气的真空装置,包括:分别对所述多个处理空间中的任意一个进行排气的多个泵部,和分别与所述多个泵部的至少一个连接、使泵动作的多个泵动作部,所述多个泵部的至少一个与互不相同的两个以上的泵动作部连接,所述互不相同的两个以上的泵动作部的至少一个与互不相同的两个以上的泵部连接。
技术领域
本发明涉及包括泵和泵动作部的真空装置。
背景技术
最近,作为平板显示装置,有机EL显示装置受到关注。有机EL显示装置是自发光显示器,其响应速度、视场角、薄型化等特性优于液晶面板显示器,在以监视器、电视、智能手机为代表的各种便携式终端等领域以较快的速度代替现有的液晶面板显示器。另外,在汽车用显示器等方面也在扩大其应用领域。
有机EL显示装置的元件具有在两个相对的电极(阴极电极、阳极电极)之间形成有引起发光的有机物层的基本构造。有机EL显示元件的有机物层和电极金属层通过在真空腔室内隔着形成有像素图案的掩模在基板上蒸镀蒸镀物质来进行制造。
在有机EL显示装置的生产线中,除了进行有机物层和电极金属层的蒸镀的成膜室之外,为了将缓冲室、旋转室、输送室、掩模储存腔室等腔室的内部空间维持为真空状态还使用泵。特别是为了维持高真空状态而使用低温泵。
低温泵是通过使腔室内的气体分子凝结或吸附于超低温面进行捕集而进行排气的泵,包括用于维持超低温面的制冷机。在低温泵的制冷机上连接有用于压缩制冷剂的压缩机。
发明内容
发明所要解决的课题
在专利文献1(日本特开公报第2000-9036号)中公开了一种将多个低温泵连接于一个压缩机的技术,但在压缩机发生故障的情况下,存在所有的低温泵不发挥作用,无法进行腔室内的排气的问题。
本发明用于解决这样的问题,其目的在于提供一种用于稳定地进行处理空间内的排气的真空装置、真空系统、使用了该真空系统的设备制造装置、设备制造系统以及设备的制造方法。
用于解决课题的方案
本发明的第一方案的真空装置,用于对多个处理空间进行排气,其中,包括:分别对所述多个处理空间的任意一个进行排气的多个泵部;分别与所述多个泵部的至少一个连接、使泵动作的多个泵动作部,所述多个泵部的至少一个与互不相同的两个以上的泵动作部连接,所述互不相同的两个以上的泵动作部的至少一个与互不相同的两个以上的泵部连接。
本发明的第二方案的真空装置,用于对多个处理空间进行排气,其中,包括:分别对所述多个处理空间的任意一个进行排气的多个泵;分别与所述多个泵的至少一个泵连接、使泵动作的多个泵动作部,用于对所述多个处理空间中的第一处理空间进行排气的泵包括第一泵和第二泵,所述第一泵和所述第二泵的任意一个与所述多个泵动作部中的第一泵动作部连接,所述第一泵和所述第二泵中的另一个与第二泵动作部连接,用于对所述多个处理空间中的第二处理空间进行排气的泵包括第三泵,所述第三泵与所述第二泵动作部连接。
本发明的第三方案的真空装置,用于对多个处理空间进行排气,其中,包括:分别对所述多个处理空间的任意一个进行排气的多个泵;分别与所述多个泵的至少一个连接、使泵动作的多个泵动作部,用于对所述多个处理空间中的第一处理空间进行排气的泵包括第一泵和第二泵,所述第一泵和所述第二泵的任意一个与所述多个泵动作部中的第一泵动作部连接,所述第一泵和所述第二泵中的另一个与第二泵动作部连接,用于对所述多个处理空间中的第二处理空间进行排气的泵包括第三泵和第四泵,所述第三泵和所述第四泵的任意一个与所述第二泵动作部连接,所述第三泵和所述第四泵中的另一个与第三泵动作部连接。
本发明的第四方案的真空系统用于对多个处理空间进行排气,其中,包括:本发明的第一方案至第三方案中的任一项所涉及的真空装置;用于控制所述真空装置的控制部。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造