[发明专利]一种用于光致发光测试的VCSEL结构外延材料结构及制备方法有效

专利信息
申请号: 201811564308.3 申请日: 2018-12-20
公开(公告)号: CN111355118B 公开(公告)日: 2021-07-20
发明(设计)人: 张杨;李弋洋 申请(专利权)人: 中科芯电半导体科技(北京)有限公司
主分类号: H01S5/00 分类号: H01S5/00
代理公司: 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 代理人: 张素红
地址: 100076 北京市大兴区西红*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 光致发光 测试 vcsel 结构 外延 材料 制备 方法
【说明书】:

发明公开了一种用于光致发光测试的VCSEL结构外延材料结构,所述结构包括经过裁剪的VCSEL结构外延材料样品,蓝膜和基底,所述VCSEL结构外延样品直立设置,且通过蓝膜粘贴固定在基底上。本发明还提供了一种上述VCSEL结构外延材料结构的制备方法。本发明提供的一种用于光致发光测试的VCSEL结构外延材料结构及制备方法,通过对VCSEL结构外延材料的裁剪并采用通过蓝膜将其固定在基底上的形式,解决了VCSEL结构外延材料因厚度较厚无法直接进行光致发光测试的问题。

技术领域

本发明主要涉及激光技术领域,特别是一种用于光致发光测试的VCSEL结构外延材料结构及制备方法。

背景技术

一般情况下VCSEL外延片为直径3-6英寸,发光波长通常在840-1100nm的范围内,其中优选的波长是840-860nm,该范围是应用于短距离光纤传输的激光器;或870-900nm,该范围是应用于原子钟激光器;或930-950nm,该范围是应用于三维识别激光器;或1040-1070nm,该范围是应用于气体传感检测器。

目前,在测试VCSEL结构外延片光致发光的过程中,由于VCSEL结构外延片结构复杂导致外延层的活动较厚。因此,利用现有的光致发光技术无法测试到VCSEL结构外延片内部的光致发光现象。

因鉴于此,特提出此发明。

发明内容

本发明的目的是提供一种可以克服较厚的VCSEL结构外延片结构,观察到其光致发光现象的用于光致发光测试的VCSEL结构外延材料结构及制备方法。

为了实现上述目的,本发明提供的一种用于光致发光测试的VCSEL结构外延材料结构,其特征在于,所述结构包括经过裁剪的VCSEL结构外延材料样品,蓝膜和基底,

所述VCSEL结构外延样品直立设置,且通过蓝膜粘贴固定在基底上。

优选地,所述VCSEL结构外延材料样品的的宽度为1-2cm。

优选地,所述VCSEL结构外延材料为砷化镓、砷化铝镓、砷化铟、砷化铟稼、砷化铝铟、磷化铝铟、磷化铟镓、磷化镓中的任意一种。

优选地,所述基底由半导体材料制成。

优选地,所述基底为方根粗糙度为0-50nm的砷化镓、碳化硅、氮化镓、蓝宝石或硅片中的任意一种。

一种上述述的用于光致发光测试的VCSEL结构外延材料结构的制备方法,按照以下步骤进行:

(1)在VESEL结构外沿材料的边沿处按照固定宽度切割下一条外沿材料;

(2)对切割下的外沿材料在长度方向上继续按照固定长度切割,切割下的VCSEL结构外延材料为VCSEL结构外延材料样品;

(3)将VCSEL结构外延材料样品直立设置,下端设置蓝膜;

(4)将VCSEL结构外延材料样品通过蓝膜粘贴在基底上;

(5)对制备的VCSEL结构外延材料结构利用光致发光激光器进行光致发光测试。

优选地,所述步骤(1)中切割宽度为1-2cm。

优选地,步骤(5)中所用的光致发光激光器发出的入射光束的波长为300nm-600nm或900-1100nm。

优选地,步骤(5)中所用的光致发光激光器发出的入射光束与VCSEL结构外延材料结构样品的顶面呈入射角为15度-90度的范围入射。

本发明提供的一种用于光致发光测试的VCSEL结构外延材料结构及制备方法,具有如下有益效果:

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